[实用新型]掩膜板及蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 202121483845.2 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN215163055U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 齐英旭;卓林海;王亚;郭宏伟;田斌;于上智 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 王倩
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 装置
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括

掩膜框架,由多条边框围设形成;

设置在所述边框上的对位掩膜条;

所述边框包括靠近所述对位掩膜条的第一表面和远离所述对位掩膜条的第二表面,所述第一表面设置有开口,且所述开口延伸至第二表面形成通孔,所述边框的第一表面设置有与所述开口连通的导流槽,所述对位掩膜条至少部分覆盖所述导流槽。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述导流槽包括进水口和出水口,所述进水口与所述开口连通,所述出水口位于所述掩膜框架的边缘。

3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述边框设置有多个沿第一方向排列的所述开口,与每个所述开口连通的多个导流槽的延伸方向不同,所述第一方向为所述边框的延伸方向。

4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,与每个所述开口连通的所述导流槽有两个,两个所述导流槽沿第一方向对称设置。

5.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,在平行于所述第一表面的平面上,所述对位掩膜条的投影边缘与所述导流槽的所述出水口的投影重合。

6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述对位掩膜条在所述掩膜框架第一面上的投影完全落入掩膜框架内。

7.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述对位掩膜条有多个,所述多个掩膜条沿所述第一方向排列,每个所述对位掩膜条与所述一个开口对应;

所述对位掩膜条上设置有对位孔,在平行于所述第一表面的平面上,所述对位孔的孔径的投影落入所述开口的投影范围内。

8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,所述导流槽宽度为1-2mm,所述导流槽深度为0.5-1mm。

9.根据权利要求1-8任一项中所述的掩膜板,其特征在于,所述通孔的延伸方向与所述第一表面不垂直。

10.一种蒸镀装置,其特征在于,包括如上任一项中所述的掩膜板。

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