[实用新型]一种用于生产高纯度光刻胶的合成器

说明书

本实用新型涉及合成设备技术领域，具体涉及一种用于生产高纯度光刻胶的合成器，其包括筒体、上封头和下封头，上封头设在筒体的上端开口处，下封头设在筒体的下端开口处，构成合成器的壳体，壳体内设有搅拌器，搅拌器包括旋转轴和设于旋转轴上的搅拌桨叶，旋转轴上端通过密封装置与设于上封头上方的电机连接，密封装置连接装有干惰性气体的干气压力罐、通过调节干惰性气体的压力以使密封装置密封所述壳体内部。本实用新型所述合成器的密封性能好，可隔离空气，提高光刻胶的纯度。

技术领域

本实用新型涉及合成设备技术领域，具体涉及一种用于生产高纯度光刻胶的合成器。

背景技术

随着智能技术的不断发展，智能设备对集成电路的集成度要求越来越高，因此在集成电路的形成工艺中需要使光刻线条更窄。为了实现光刻工艺中光刻线条变窄，需要更高纯度的光刻胶。而采用现有合成设备得到的光刻胶存在金属离子的数量超标的缺陷，导致光刻胶的纯度不够高。

因此，需要一种能提高光刻胶纯度的合成设备。

实用新型内容

本实用新型为了克服现有技术的不足，提供一种适于生产高纯度光刻胶的合成器，该合成器的密封性能好，可隔离空气，提高光刻胶的纯度。

一种用于生产高纯度光刻胶的合成器，包括筒体、上封头和下封头，所述上封头设在所述筒体的上端开口处，所述下封头设在所述筒体的下端开口处，构成所述合成器的壳体，所述壳体内设有搅拌器，所述搅拌器包括旋转轴和设于所述旋转轴上的搅拌桨叶，所述旋转轴上端通过密封装置与设于所述上封头上方的电机连接，所述密封装置连接装有干惰性气体的干气压力罐、通过调节所述干惰性气体的压力以使所述密封装置密封所述壳体内部。

作为一种方式，所述干气压力罐的出气口与所述密封装置的进气口之间设有调节干惰性气体压力的压力调节阀。

作为一种方式，所述干气压力罐的出气口与所述密封装置的进气口之间设有调节干惰性气体温度的干气换热器。

作为一种方式，所述合成器还设有驱动所述旋转轴动作以调节旋转轴两侧的搅拌桨叶的边缘与筒体内壁之间间距的调节机构。

作为一种方式，所述旋转轴两侧的搅拌桨叶的边缘与对应所述筒体内壁之间设有挡板。

作为一种方式，所述旋转轴两侧的搅拌桨叶的边缘与对应挡板之间的间距为30~60mm。

作为一种方式，所述挡板与对应筒体内壁之间具有夹角α，所述夹角α的范围为90～180°。

作为一种方式，所述壳体内壁、所述搅拌器和所述挡板的外表面设有聚四氟乙烯涂层。

作为一种方式，所述上封头设置进料口、温度计口、压力表口、气相平衡口和稀释剂入口，气相平衡口通过管道与气体平衡罐连接，所述下封头设置出料口。

作为一种方式，所述下封头的外周设有恒温夹套，所述恒温夹套通过管道与热交换器连接。

本实用新型技术方案和现有技术相比具有如下优点：

1、本实用新型合成器设置通过微高压干惰性气体作为密封介质对壳体内部进行机械密封的密封装置，为生产光刻胶提供一种相对无氧的环境，避免氧化杂质的生成，提高了光刻胶的纯度。

2、本实用新型合成器与物料接触的表面全部衬有高纯度的四氟乙烯，提供了无金属离子渗入的反应环境，避免金属离子掺杂，提高光刻胶的纯度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。