[实用新型]一种坩埚可调节板组件

说明书

本实用新型提供一种坩埚可调节板组件，所述组件包括坩埚夹持单元以及锁紧单元，所述坩埚夹持单元包括基台部以及夹持部，所述基台部的底面与所述夹持部的顶端相连，所述夹持部侧壁设置有至少一个开口，所述锁紧单元环绕设置于所述夹持部外壁。所述坩埚可调节板组件可按使用需求调整高度，适用范围广，成本低，可以适用于多种工况。

技术领域

本实用新型属于溅射装置领域，涉及一种坩埚可调节板组件。

背景技术

物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)是电子在电场的作用下加速飞向基板的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基板，氩离子在电场的作用下加速轰击溅射基台上的靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基板上成膜，而最终达到对基板表面镀膜的目的。坩埚是溅射过程中常用的器具，但是由于溅射条件以及材质不同，往往需要使用不同尺寸以及材质的坩埚。但是，由于溅射机台上固定坩埚的组件不可调节，因此在更换坩埚时还需对固定坩埚的组件进行更换，不仅提高了生产成本，同时也降低了生产效率。

CN209431873U公开了一种石墨碳化硅坩埚用夹具，包括支撑柱，所述支撑柱上套设有固定套，所述支撑柱的上下两端均贯穿并固定有限位板，且两个限位板分别位于固定套的两侧，所述固定套上设有固定装置，所述支撑柱下端的一周侧壁上等间距转动连接有三个固定块，所述固定套的一周侧壁上等间距转动连接有三个连接杆，且三个连接杆的下端分别转动连接在三个固定块的上端，所述固定块的下端设有凹槽，所述凹槽内设有调节装置。

CN209427363U公开了一种适用于石墨碳化硅坩埚的支撑架，包括承载板，所述承载板的上端设有四个减震装置，所述承载板的上端转动连接有四个转动板，且四个减震装置的一端分别转动连接在四个转动板的一侧，所述转动板的另一侧固定有夹持块，所述夹持块的一侧设有弧形槽，且四个弧形槽相互对应，所述承载板的上端可拆卸连接有支撑板，且支撑板位于四个转动板的中部，所述支撑板的上端设有放置槽，所述转动板的一侧固定有限位板。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的技术问题，本实用新型提供一种坩埚可调节板组件，所述坩埚可调节板组件可按使用需求调整高度，适用范围广，成本低，可以适用于多种工况。

为达到上述技术效果，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种坩埚可调节板组件，所述组件包括坩埚夹持单元以及锁紧单元，所述坩埚夹持单元包括基台部以及夹持部，所述基台部的底面与所述夹持部的顶端相连，所述夹持部侧壁设置有至少一个开口，所述锁紧单元环绕设置于所述夹持部外壁。

本实用新型中，夹持部侧壁的开口设置可使夹持部适用于不同尺寸的坩埚，而锁紧组件的设置在对坩埚进行进一步固定的同时，可通过调节锁紧组件的位置来调节坩埚的高度，提高了坩埚可调节板组件的适用工况。

作为本实用新型优选的技术方案，所述夹持部侧壁设置的开口位于所述夹持部底端，并平行沿所述侧壁延伸。

本实用新型中，所述夹持部侧壁的开口以侧壁底端为起点，平行沿侧壁延伸，开口垂直贯穿侧壁，但未水平贯穿侧壁。开口的设置增加了夹持部侧壁的形变量，使得夹持部可以容纳不同尺寸的坩埚。

作为本实用新型优选的技术方案，所述夹持部侧壁设置的开口的宽度分别独立地为1.0～2.0mm，如1.1mm、1.2mm、1.3mm、1.4mm、1.5mm、1.6mm、1.7mm、1.8mm或1.9mm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型优选的技术方案，所述夹持部侧壁设置有至少8个开口，如9个、10个、11个或12个等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。