[实用新型]一种回收光刻胶过滤装置

说明书

本实用新型公开了一种回收光刻胶过滤装置，包括：过滤箱，所述过滤箱的内部两侧设置有滑动槽且滑动槽的内部设置有滑动杆，所述滑动杆的表面设置有支撑柱且支撑柱套接在滑动杆表面，所述支撑柱的上部设置有过滤板且过滤板设置有若干组，所述过滤箱的内底部设置有收集盒，所述过滤箱的顶部设置有盖体且盖体的下部设置有嵌合块。本实用新型通过转动固定套管可以使螺纹柱缩紧，从而对连接管进行夹持，保证了连接管的稳定性，在连接管的另一端设置有增压器，增压器通过连接管对过滤箱内进行增压，使回收光刻胶通过过滤板进行过滤，并通过底部的收集盒进行收集，在过滤箱的侧面设置有排气口，方便排气。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶生产技术领域，更具体为一种回收光刻胶过滤装置。

背景技术

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

目前，回收光刻胶中含有大量杂质，直接使用容易造成供胶系统的二次污染，严重时可能造成堵塞。因此，需要提供一种新的技术方案给予解决。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种回收光刻胶过滤装置，解决了目前，回收光刻胶中含有大量杂质，直接使用容易造成供胶系统的二次污染，严重时可能造成堵塞的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种回收光刻胶过滤装置，包括：过滤箱，所述过滤箱的内部两侧设置有滑动槽且滑动槽的内部设置有滑动杆，所述滑动杆的表面设置有支撑柱且支撑柱套接在滑动杆表面，所述支撑柱的上部设置有过滤板且过滤板设置有若干组，所述过滤箱的内底部设置有收集盒，所述过滤箱的顶部设置有盖体且盖体的下部设置有嵌合块，所述嵌合块与过滤箱之间相互嵌合，所述盖体的顶部设置有固定座且固定座的上部设置有螺纹柱，所述螺纹柱的表面设置有固定套管且固定套管与螺纹柱之间螺纹连接，所述螺纹柱的内部设置有连接管且连接管的另一端设置有增压器，所述过滤箱的侧面设置有排气口且排气口与过滤箱之间相连通。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述滑动杆的表面设置有若干组缓冲柱且缓冲柱位于若干组过滤板之间，所述过滤板通过缓冲柱与支撑柱之间伸缩连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述嵌合块的表面设置有密封圈且密封圈套接在嵌合块表面并与过滤箱内壁相互接触。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述排气口的内部设置有出气孔且出气孔侧面设置有球体，所述球体的侧面设置有弹簧柱且球体通过弹簧柱与出气口之间伸缩连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，若干组所述过滤板的滤孔孔径由上到下依次递减。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：