[实用新型]一种光刻胶喷头的清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种光刻胶喷头的清洗装置，包括：清洗箱，所述清洗箱的左侧设置有控制器且内部设置有盛液槽，所述盛液槽的底部设置有超声波发生器且超声波发生与控制器之间电性连接，所述盛液槽的内部设置有网兜且网兜的上部设置有耳板，所述盛液槽的内部设置有卡块。本实用新型在清洗箱的侧面设置有控制器且内部盛液槽的底部设置有超声波发生器，通过超声波发生器产生微波振动从而对喷头进行清洗，其清洗效率快且清洗效果更好，在盛液槽的内部设置有卡块和托架，在网兜的上部设置有耳板，网兜横向放置时与卡块之间接触，从而使网兜底部浸没在清洗液中，清洗完成网兜横向转动90度，将其放置在托架表面进行晾干，操作简单快捷。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶生产技术领域，更具体为一种光刻胶喷头的清洗装置。

背景技术

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 [6]。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

目前，由于光刻胶喷头小，人工清洗效率慢，且存在清洗不彻底的情况。因此，需要提供一种新的技术方案给予解决。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光刻胶喷头的清洗装置，解决了目前，由于光刻胶喷头小，人工清洗效率慢，且存在清洗不彻底的情况的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光刻胶喷头的清洗装置，包括：清洗箱，所述清洗箱的左侧设置有控制器且内部设置有盛液槽，所述盛液槽的底部设置有超声波发生器且超声波发生与控制器之间电性连接，所述盛液槽的内部设置有网兜且网兜的上部设置有耳板，所述盛液槽的内部设置有卡块且卡块与耳板之间相互接触，所述清洗箱的右侧设置有支撑架且支撑架的内部设置有滑动槽，所述滑动槽的内部设置有螺杆且螺杆的一端延伸至支撑架顶部，所述支撑架的顶部设置有安装架且安装架的上部设置有电机，所述电机的动力输出端与螺杆之间固定连接，所述螺杆的表面设置有滑动块且滑动块的侧面设置有安装板，所述安装板的上部设置有驱动器且驱动器的动力输出端设置有清洗刷，所述支撑架的侧面设置有固定架且固定架的中心处设置有固定块，所述清洗刷与固定孔之间相对应。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述固定架的底部设置有四组活动杆且活动杆的下部设置有弹性圈，所述活动杆位于固定孔的边缘处且与固定架之间转动连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述固定孔的内部设置有弹簧柱且弹簧柱的侧面设置有夹板，所述夹板通过弹簧柱与固定孔之间伸缩连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述盛液槽的内壁设置有托架且托架与盛液箱之间通过螺栓固定。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述清洗刷的刷毛呈倾斜状设置且清洗刷通过刷毛形成倒锥形结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：