[实用新型]一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置

权利要求书

1.一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，包括反应箱(1)，其特征在于：所述反应箱(1)内部设有渗析机构；

所述渗析机构包括安装板(18)，所述安装板(18)设在反应箱(1)内部，所述安装板(18)外端与反应箱(1)内壁固定连接，所述安装板(18)一侧设有隔板(15)并与隔板(15)通过螺栓连接，所述隔板(15)上镶嵌有阴离子交换膜(16)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，其特征在于：所述反应箱(1)顶端固定设有过滤舱(9)，所述过滤舱(9)内部设有过滤器(13)，所述过滤舱(9)底端固定设有连通管(14)，所述连通管(14)一端延伸至反应箱(1)内部。

3.根据权利要求2所述的一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，其特征在于：所述反应箱(1)一侧设有废酸罐(10)，所述废酸罐(10)内部设有抽液管(8)，所述抽液管(8)一端贯穿废酸罐(10)顶端并与过滤舱(9)顶端固定连接，所述废酸罐(10)顶端固定设有抽液泵(7)，所述抽液泵(7)固定设在抽液管(8)上。

4.根据权利要求3所述的一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，其特征在于：所述反应箱(1)顶端固定设有储水罐(6)，所述储水罐(6)和过滤舱(9)分别位于隔板(15)两侧，所述储水罐(6)和废酸罐(10)前侧均固定设有进料管，所述进料管上固定设有第一阀门，所述储水罐(6)一侧固定设有连接管(5)，所述连接管(5)上固定设有电磁阀，所述连接管(5)一端固定设有叶轮箱(4)，所述叶轮箱(4)固定设在反应箱(1)另一侧。

5.根据权利要求4所述的一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，其特征在于：所述叶轮箱(4)内部设有搅拌轴(17)，所述搅拌轴(17)两端分别与叶轮箱(4)两侧内壁通过密封轴承活动连接，所述搅拌轴(17)一端延伸至反应箱(1)内部，所述反应箱(1)内部设有多个搅拌棒(19)，所述搅拌棒(19)固定设在搅拌轴(17)外端，所述搅拌棒(19)设在隔板(15)一侧，所述叶轮箱(4)内部设有多个叶轮(20)，所述叶轮(20)固定设在搅拌轴(17)外端，所述叶轮箱(4)底端固定设有进水管(3)，所述进水管(3)一端与反应箱(1)另一侧固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种半导体行业扩散渗析废酸处理装置，其特征在于：所述反应箱(1)前侧固定设有回收管(2)和残液排出管(12)，所述回收管(2)和残液排出管(12)上均固定设有第二阀门，所述回收管(2)和残液排出管(12)分别设在阴离子交换膜(16)两侧，所述反应箱(1)前侧固定设有两个PH值检测仪(11)，两个所述PH值检测仪(11)分别设在阴离子交换膜(16)两侧，所述安装板(18)一侧固定设有密封垫，所述密封垫一侧与隔板(15)相接触。