[实用新型]一种光学结构及显示组件有效

专利信息
申请号: 202121340185.2 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN215496721U 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 李鑫;韩城;张智辉;樊星;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘红彬
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 结构 显示 组件
【说明书】:

实用新型涉及光学领域,公开一种光学结构及显示组件。光学结构包括:用于设置在光源和介质层之间的结构本体;结构本体具有朝向光源一侧的第一表面和朝向介质层的第二表面,第二表面形成有多个凸起;结构本体的折射率高于介质层的折射率,且光源发出的光线在结构本体与介质层界面处的实现全反射的临界角度为θ,所述θ≥45°。该光学结构可以提高入射到凸起所在区域的光线的出射率,相当于减小了波导光的光损失,将更多的光线引导到空气中,可以极大地提升显示器件的发光效率;且大视角的光线会被向小视角汇聚,能够显著提高显示的正面亮度。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域,特别涉及一种光学结构及显示组件。

背景技术

近年来显示技术不断推陈出新,从传统LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)显示不断向Mini LED(Mini Light-Emitting Diode,发光二极管)、QLED(Quantum DotLight Emitting Diodes,量子点发光二极管)、OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)、Micro LED(Micro Light-Emitting Diode,微型发光二极管)拓展。其中电致发光QLED、OLED和Micro LED为主动发光型显示器件。主动发光型显示器件由有机材料(OLED)、量子点(QLED)或LED晶元(Micro LED)发光产生光信号,经过有机或无机介质,通过MDL材料后最终出射到空气中。

光源发出的光线在出射到空气前,会有一大部分光因为高折到低折界面的全反射造成波导光损失。而传统的平面堆叠结构不改变光线出光路径,无法将光线更多的集中到正面出射,不能进一步提升正面亮度,降低功耗。

实用新型内容

本实用新型公开了一种光学结构及显示组件,用于减少波导光损失,提升正面光出射效率。

为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:

一种光学结构,包括:用于设置在光源和介质层之间的结构本体;

所述结构本体具有朝向所述光源一侧的第一表面和朝向所述介质层的第二表面,所述第二表面形成有多个凸起;

所述结构本体的折射率高于所述介质层的折射率,且所述光源发出的光线在所述结构本体与所述介质层界面处的实现全反射的临界角度为θ,所述θ≥45°。

上述光学结构,光源发出的光线进入光学结构的凸起区域时,至少部分光线可以自凸起出射到介质层,提高入射到凸起所在区域的光线的出射率,相当于减小了波导光损失,将更多的光线引导到空气中,可以极大地提升显示器件的发光效率;且大视角的光线会被向小视角汇聚,能够显著提高显示的正面亮度。

优选地,所述凸起垂直于所述第二表面。

优选地,每个所述凸起的尺寸满足以下条件:

其中,d1为所述凸起垂直于所述第二表面的尺寸,d2为所述凸起平行于所述第二表面的尺寸。

优选地,每个所述凸起的尺寸满足以下条件:

优选地,所述凸起的底面尺寸大于所述凸起的顶面尺寸,且所述顶面在所述第二表面的正投影落在所述底面在所述第二表面的正投影内。

优选地,所述凸起的侧面与所述第二表面的夹角为60-90°,所述侧面为所述底面与所述顶面之间的斜面。优选地,所述光学结构与非像素区对应;所述凸起垂直于所述第二表面的尺寸为5-10μm,所述凸起平行于所述第二表面的尺寸为10-20μm,任意两个相邻的所述凸起之间的间距为10-25μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121340185.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top