[实用新型]一种PVD托盘

说明书

本实用新型公开了一种PVD托盘，包括上导轨、侧挡板以及下挡板，上导轨、侧挡板以及下挡板围合成滑动区以容纳滚轮，以防止TCO材料溅射于滚轮侧的导轨或挡板上。此外，上导轨或/和下挡板的内侧壁设有用于防止滚轮位移的固定位，滚轮的周向方向设有与固定位相配合的凹槽。本实用新型从现有的导轨和滚轮的外接触方式，改变至导轨和滚轮的内接触方式，通过侧挡板和下挡板包裹于滚轮的外围，防止TCO材料溅射于滚轮侧的导轨或挡板上，避免了导轨和滚轮不断摩擦产生粉尘，提高了成品电池的合格率；导轨内侧的固定位可以防止托盘在运行过程中偏移，使滚轮和导轨之间摩擦更加平稳，减少粉尘，提高了空间的洁净度。

技术领域

本实用新型涉及光伏电池制造技术领域，更具体地说，本实用新型涉及一种PVD托盘。

背景技术

异质结太阳能电池（HIT）技术作为近年来引起行业高度关注的高效技术路线，因其光电转换效率高、性能优异、降本空间大，平价上网前景好，成为行业公认的下一代商业光伏产业技术。

对于高效异质结电池来说，目前的技术难点之一在于制程中对硅片质量要求较高，为保证异质结电池的效率及良率，需要保证生产过程中有良好的洁净度。在异质结核心工艺中有一个工艺就是TCO导电膜的制备，导电膜目前主要的制备方法为PVD物理气相沉积工艺。

物理气相沉积工艺(Physical Vapor Deposition，PVD) 是指在真空条件下，采用物理方法，将靶材—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。由于PVD工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基材结合力强等特点得到了快速的发展。

然而，当前的PVD镀膜设备普遍存在TCO粉尘现象，如图1所示，图1为现有技术中PVD托盘的结构示意图，图1中包括滚轮1和导轨2，其中导轨2在使用时直接放置在滚轮1上，导轨2和PVD托盘固定连接，PVD托盘在正常工作时，托盘在传输过程中，导轨2和滚轮1来回摩擦，造成TCO膜层从托盘上脱落，形成TCO粉尘，这种TCO粉尘会散落在腔体内部和外部设备上面和电池片表面，造成洁净度降低、外观不良等现象，最终造成了效率与良率不足的重大损失。

造成TCO粉尘现象的最大原因是因为托盘两端导轨上沉积的TCO膜层不断与滚轮或皮带摩擦产生粉尘，并且随着托盘使用次数的增加，TCO膜层越来越厚，引起的粉尘量也不断增多，极大增加了外观不良片的数量，降低了空间的洁净度，造成电池片效率下降。

针对上述缺陷，本领域技术人员亟需提供一种PVD托盘，对托盘导轨结构进行改进，改善导轨和滚轮之间的接触方式，减少导轨和滚轮之间不断摩擦产生的TCO粉尘，提高了成品电池的合格率。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的提供一种PVD托盘，对托盘导轨结构进行改进，改善导轨和滚轮之间的接触方式，减少导轨和滚轮之间不断摩擦产生的TCO粉尘，提高了成品电池的合格率。

为实现上述目的，本实用新型提供一种PVD托盘，包括上导轨，还包括侧挡板以及下挡板，所述上导轨、侧挡板以及下挡板围合成滑动区以容纳滚轮。

优选的，所述上导轨、侧挡板以及下挡板依次固定连接，所述上导轨和下挡板抵靠在所述滚轮的上下方，所述侧挡板贴合于所述滚轮的侧壁。

优选的，所述上导轨或/和下挡板的内侧壁设有至少一个用于防止滚轮位移的固定位。

优选的，所述固定位的高度为1-5mm，所述固定位的截面呈锥台形结构或半圆形结构。

优选的，所述固定位和所述滚轮之间设有耐磨橡胶垫。

优选的，所述上导轨通过连接板连接侧挡板，所述侧挡板和下挡板固定连接，所述上导轨贴合于所述滚轮的周向上端，所述侧挡板与所述滚轮的侧壁之间保持间距，所述下挡板与所述滚轮的周向下端之间保持间距。