[实用新型]防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的装置及系统有效

专利信息
申请号: 202121151382.X 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN216118382U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 簗瀬优 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F1/64 分类号: G03F1/64
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本东京千代田区大手町二丁*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 防护 薄膜 框架 包括 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种防护薄膜框架,其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的四边形框状的防护薄膜框架,其特征在于,所述防护薄膜框架为金属制,并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上。

2.一种防护薄膜框架,其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的四边形框状的防护薄膜框架,其特征在于,所述防护薄膜框架为金属制,并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,防护薄膜的内空间侧的通气面积的合计为0.001mm2以上。

3.一种防护薄膜框架,其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的四边形框状的防护薄膜框架,其特征在于,所述防护薄膜框架为金属制,并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,外侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上。

4.一种防护薄膜框架,其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的四边形框状的防护薄膜框架,其特征在于,所述防护薄膜框架为金属制,并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,防护薄膜的外空间侧的通气面积的合计为0.001mm2以上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,设置有至少在内侧面具有开口部的贯通孔。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,所述通气面积的合计为0.0013mm2以上。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,所述通气面积的合计为0.0015mm2以上。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,所述通气面积的合计为0.02mm2以下。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,每1mm3体积的防护薄膜的内空间中,所述通气面积的合计为0.015mm2以下。

10.根据权利要求5所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述贯通孔的开口面积为0.03mm2以上。

11.根据权利要求5所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述贯通孔与防护薄膜端面之间的最薄部为0.2mm以上。

12.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述切口部的高度为防护薄膜框架的厚度的50%以下。

13.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述切口部的高度为防护薄膜框架的厚度的30%以下。

14.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述切口部的高度为防护薄膜框架的厚度的15%以下。

15.根据权利要求1至4中任一项所述的防护薄膜框架,其特征在于,所述切口部的高度为防护薄膜框架的厚度的5%以上。

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