[实用新型]一种镀膜机

说明书

一种镀膜机，其特征在于：包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有旋转平台，所述真空室绕圆周均匀设置有真空镀膜腔，所述真空室为高1.8m、直径3m的圆心结构，使得真空室体积处于6‑18m³之间。所述真空室为圆形立柱，内部下端安装有360°旋转轨道，所述轨道上设置有旋转轴承，所述旋转轴承下方设置有轴承电机，所述轴承电机与所述旋转轴承控制连接，所述真空室上端设置有传输轨道，所述传输轨道根据设备镀膜腔数量对应分为若干链接点，所述链接点上均设置有光电感应器，本发明为一种高适应性、高效率、高质量的新型镀膜机。

技术领域

本发明涉及一种镀膜设备，具体涉及一种镀膜机。

背景技术

目前大部分公司所使用的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机，在使用过程中会受到前一工序中镀膜时所使用的氧气或氮气等的影响，部分氧气或者氮气串入下一工序中，使得下一工序的溅射物被前一工序的氮气或者氧气产生反应，得到该工序不需要的反应物，影响该道工序中镀膜层的效果需求，同时直列式的连续真空磁控溅射镀膜机在面对多层镀膜工艺的需求时，需要根据镀膜层数而相应加长或减少该工序的生产线，使得直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对生产空间的要求较高，占地较大，影响成本和能耗，故现有直列式镀膜机不能满足新的镀膜工艺，使用现有的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对镀膜产品有影响。

CN101130452B名为“一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺”，提到了一种星型双回转磁控溅射到点玻璃镀膜设备，该设备通过双回转可增加的控制室较少，且由于双回转的设计，使得该设备的生产路程拉长，增加了镀膜产品在磁控溅射镀膜设备内的停留时间，增加了设备故障成本，同时不利于镀膜完成后的镀膜产品质量的保障，该发明在针对镀膜工艺较少、产量不高的的镀膜产品时则对产品生产影响较小，但针对镀膜层数、镀膜种类多的镀膜产品，该星型双旋转溅射镀膜设备存在生产效率较低，不能满足现如今工厂产能的需求，影响了现代工厂的经济效益，现如今需要一种高适应性、高效率、高质量的新型磁控溅射镀膜机。

综上所述，需要设计一种新型磁控溅射镀膜设备来解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于为了解决上述技术问题，而提供一种镀膜设备，通过对设备所可能造成的产品缺陷的弥补，保证更高的溅射膜使用效果。

本发明通过以下技术方案来实现上述目的，一种镀膜机，其中：包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有旋转平台，所述真空室绕圆周均匀设置有真空镀膜腔体。

优选的，所述真空室为高1.8m、直径3m的圆心结构，使得真空室体积处于6-18m3之间。

优选的，所述真空室为圆形立柱，内部下端安装有360°旋转轨道，所述轨道上设置有旋转轴承，所述旋转轴承下方设置有轴承电机，所述轴承电机与所述旋转轴承控制连接，所述真空室上端设置有传输轨道，所述360°旋转轨道根据设备真空镀膜腔数量对应分为若干链接点，所述链接点上均设置有光电感应器。

优选的，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路。

优选的，所述进片台与所述进片室之间通过阀门十一连接，所述进片室与所述真空室之间通过阀门一连接，所述真空室与所述出片室之间通过阀门十连接，所述出片室与所述补充台通过阀门十二连接。