[实用新型]一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，包括设备主体壳，所述设备主体壳内部的底端固定安装有固定壳，所述固定壳的顶部设置有封闭盖板，所述封闭盖板的顶部设置有检测靶材平整装置。通过上述方式，本实用新型提供的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，具备检测靶材平整和避免箱门无法关闭产生缝隙的优点，解决了对靶材进行固定过程中极易出现靶材不平导致磁控溅射的过程中出现镀膜层次差和利用电动推杆辅助拉动的过程中极易出现箱门跟设备之间存在缝隙导致贵金属无法到指定磁控溅射位置进行整体镀膜的问题。

技术领域

本实用新型涉及溅射靶材的技术领域，特别是涉及一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备。

背景技术

随着人们生活水平的提升，越来越多的人们选择购买贵金属进行投资升级，但是随着时间的推移如何长久的保持贵金属的成色、重量等特性不变成为了难题，贵金属薄膜镀制技术的出现解决了这个问题，贵金属薄膜镀制技术主要分为贵金属纳米镀膜和贵金属真空镀膜两种，贵金属纳米镀膜就是在贵金属表面镀上ー层钻石级硬度、纳米级厚度的导电聚合物镀层，从而使贵金属表面具有良好的耐磨性、耐腐蚀性、防氧化等特性。

现有技术中，专利号201922112052.9提出的解决镀膜完成后工作人员不便取出内部的贵金属问题，还存在利用螺母对薄膜镀制需要使用到的靶材进行固定的过程中，工作人员无法精准的控制拧动每一颗螺丝的深度，容易出现靶材固定不平整，导致了在磁控溅射的过程中，贵金属的表面出现镀膜层次差，降低了贵金属的价值，同时利用电动推杆拉动的过程中，无法控制伸缩停留的位置，会使箱门跟设备发送碰撞，极易出现箱门跟设备之间存在缝隙，导致贵金属无法到指定磁控溅射位置进行整体镀膜。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，具备检测靶材平整和避免箱门无法关闭产生缝隙的优点，解决了对靶材进行固定过程中极易出现靶材不平导致磁控溅射的过程中出现镀膜层次差和利用电动推杆辅助拉动的过程中极易出现箱门跟设备之间存在缝隙导致贵金属无法到指定磁控溅射位置进行整体镀膜的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，包括设备主体壳，所述设备主体壳内部的底端固定安装有固定壳，所述固定壳的顶部设置有封闭盖板，所述封闭盖板的顶部设置有检测靶材平整装置，所述检测靶材平整装置包括有检测靶材平整设备壳、滚珠、辅助槽、套接杠杆和固定圆柱，所述封闭盖板的顶部固定安装有检测靶材平整设备壳，所述检测靶材平整设备壳内部的底端开设有辅助槽，所述辅助槽的内部设置有滚珠，所述检测靶材平整设备壳内壁的两侧均固定卡接有固定圆柱，所述固定圆柱的表面活动套接有套接杠杆。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述设备主体壳内壁的两侧均焊接有第一伸缩套管，所述第一伸缩套管的侧面开设有滑槽，所述滑槽内壁的一侧固定安装有弹簧，所述弹簧的另一端设置有第一磁石块，所述第一磁石块的侧面固定安装有伸缩柱，所述伸缩柱的侧面焊接有连接臂，所述连接臂的侧面固定卡接有贵金属摆放板。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述固定壳内部的底端固定卡接有靶材设备壳，所述封闭盖板的表面设置有紧固螺丝，所述固定壳和封闭盖板通过紧固螺丝连接，所述检测靶材平整设备壳的顶部开设有限位槽，所述固定圆柱的表面设置有限位块，且限位块位于固定圆柱的两侧。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述设备主体壳内壁的一侧固定安装有第二伸缩套管，所述第二伸缩套管的内部滑动连接有伸缩杆，所述伸缩杆的底部设置有转动轴承，所述转动轴承的表面固定卡接有限位圆片。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述设备主体壳内壁的一侧固定安装有第二磁石块，所述第二磁石块位于第一磁石块的一侧。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述转动轴承的表面活动套接有凸轮，所述凸轮的侧面焊接有卡齿，所述卡齿的表面卡接有齿轮，所述齿轮的内部固定卡接有连接臂。