[实用新型]一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备

权利要求书

1.一种磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，包括设备主体壳，所述设备主体壳内部的底端固定安装有固定壳，所述固定壳的顶部设置有封闭盖板，所述封闭盖板的顶部设置有检测靶材平整装置，所述检测靶材平整装置包括有检测靶材平整设备壳、滚珠、辅助槽、套接杠杆和固定圆柱，所述封闭盖板的顶部固定安装有检测靶材平整设备壳，所述检测靶材平整设备壳内部的底端开设有辅助槽，所述辅助槽的内部设置有滚珠，所述检测靶材平整设备壳内壁的两侧均固定卡接有固定圆柱，所述固定圆柱的表面活动套接有套接杠杆。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，所述设备主体壳内壁的两侧均焊接有第一伸缩套管，所述第一伸缩套管的侧面开设有滑槽，所述滑槽内壁的一侧固定安装有弹簧，所述弹簧的另一端设置有第一磁石块，所述第一磁石块的侧面固定安装有伸缩柱，所述伸缩柱的侧面焊接有连接臂，所述连接臂的侧面固定卡接有贵金属摆放板。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，所述固定壳内部的底端固定卡接有靶材设备壳，所述封闭盖板的表面设置有紧固螺丝，所述固定壳和封闭盖板通过紧固螺丝连接，所述检测靶材平整设备壳的顶部开设有限位槽，所述固定圆柱的表面设置有限位块，且限位块位于固定圆柱的两侧。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，所述设备主体壳内壁的一侧固定安装有第二伸缩套管，所述第二伸缩套管的内部滑动连接有伸缩杆，所述伸缩杆的底部设置有转动轴承，所述转动轴承的表面固定卡接有限位圆片。

5.根据权利要求2所述的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，所述设备主体壳内壁的一侧固定安装有第二磁石块，所述第二磁石块位于第一磁石块的一侧。

6.根据权利要求4所述的磁控溅射贵金属薄膜镀制设备，其特征在于，所述转动轴承的表面活动套接有凸轮，所述凸轮的侧面焊接有卡齿，所述卡齿的表面卡接有齿轮，所述齿轮的内部固定卡接有连接臂。