[实用新型]一种微波等离子清洗机用的波导矩阵有效
| 申请号: | 202120901692.2 | 申请日: | 2021-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN214624967U | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
| 发明(设计)人: | 田鹏康 | 申请(专利权)人: | 中科光智(西安)科技有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 王小燕 |
| 地址: | 710065 陕西省西安市高新*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 微波 等离子 清洗 波导 矩阵 | ||
本实用新型适用于微波等离子清洗机技术领域,提供了一种微波等离子清洗机用的波导矩阵,包括真空腔体、第一风罩和第二风罩,所述第一风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的上方,所述第二风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的正面;本实用新型能够将单管微波源相互组合,并弥补单管磁控管功率的不足,同时提高了超大型腔体内的功率密度,解决了目前由于单磁控管微波功率有限,且定制超大功率磁控管价格昂贵,从而限制了超大腔体微波等离子清洗机应用的问题,同时解决了由于超大型微波等离子清洗机存在有腔体内微波场分布不均和功率密度不足的缺陷,进而限制了微波等离子清洗机腔体尺寸的问题。
技术领域
本实用新型属于微波等离子清洗机技术领域,尤其涉及一种微波等离子清洗机用的波导矩阵。
背景技术
随着电子电路集成化程度的提高,芯片特征尺寸变小以及新型材料的研发与使用,对其表面处理和清洗的要求也越来越高,微波等离子体表面清洗工艺已经成为提高产品可靠性和成品率的重要手段,是生产工艺中不可缺少的步骤。在真空腔里,通过射频电源在一定的压力情况下产生高能量各向异性的等离子体,通过等离子体轰击或者中性粒子接触被清洗产品表面.以达到清洗目的。等离子清洗是一种全新的高科技技术,利用等离子体可以清洗常规清洗方法难以清洗的电子产品,且可以满足无损伤,无污染和抑制腐蚀的新工艺要求。
目前由于单磁控管微波功率有限,且定制超大功率磁控管价格昂贵,从而限制了超大腔体微波等离子清洗机的应用,且即使做成了超大型微波等离子清洗机,腔体内微波场分布仍不均匀,功率密度不足,进而限制了微波等离子清洗机的腔体尺寸,为此我们提出一种能够将单管微波源相互组合,并弥补单管磁控管功率的不足,同时提高超大型腔体内功率密度的微波等离子清洗机用的波导矩阵来解决此问题,该矩阵同时能够避免因微波干涉而造成耦合负载的状况,其能够做成超大型的微波等离子腔体,适用于超大件清洗以及超大UPH清洗应用。
实用新型内容
本实用新型提供一种微波等离子清洗机用的波导矩阵,旨在解决上述技术背景中提出的问题。
本实用新型是这样实现的,一种微波等离子清洗机用的波导矩阵,包括真空腔体、第一风罩和第二风罩,所述第一风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的上方,所述第二风罩的数量为若干个并设置在真空腔体的正面,所述第一风罩的顶部以及第二风罩的正面设置有进出风机构,所述进出风机构包括第一进风口、第一出风管、第二进风口和第二出风管,所述真空腔体的顶部设置有第一波导固定面,所述真空腔体的正面设置有第二波导固定面,所述第一波导固定面的顶部安装有第一弧形反射面,第一弧形反射面的正面设置有第一倾斜反射面,所述第二波导固定面的正面安装有第二弧形反射面,所述第二弧形反射面的底部设置有第二倾斜反射面。
优选的,所述第一进风口和第一出风管的底端均与第一风罩相互连通,且第二进风口和第二出风管的后端均与第二风罩相互连通。
优选的,所述真空腔体的底部设置有减震垫,所述且减震垫的材质为减震橡胶。
优选的,所述第一波导固定面和第二波导固定面均通过螺栓与真空腔体相互固定,且第一波导固定面的尺寸与第二波导固定面的尺寸相同。
优选的,所述第一倾斜反射面的倾角为60-75°,且第二倾斜反射面的倾角为30-45°。
优选的,所述第一进风口和第二进风口的开口处均呈方形,所述第一出风管和第二出风管的内径相同。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型能够将单管微波源相互组合,并弥补单管磁控管功率的不足,同时提高了超大型腔体内的功率密度,解决了目前由于单磁控管微波功率有限,且定制超大功率磁控管价格昂贵,从而限制了超大腔体微波等离子清洗机应用的问题,同时解决了由于超大型微波等离子清洗机存有腔体内微波场分布不均和功率密度不足的缺陷,进而限制了微波等离子清洗机腔体尺寸的问题。
附图说明
图1为本实用新型的结构正视图;
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