[实用新型]一种高EAS的VDMOS器件有效

专利信息
申请号: 202120804787.2 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN215008197U 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 赵喜高 申请(专利权)人: 广东可易亚半导体科技有限公司
主分类号: H01L23/34 分类号: H01L23/34;H01L23/552;H01L23/10;H01L29/78
代理公司: 广东中禾共赢知识产权代理事务所(普通合伙) 44699 代理人: 熊士昌
地址: 518000 广东省深圳市福田区沙头街道天*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 eas vdmos 器件
【说明书】:

实用新型公开了一种高EAS的VDMOS器件,包括VDMOS管,所述VDMOS管的顶部套接有屏蔽层,且屏蔽层的外壁固定连接有隔温层,所述屏蔽层两侧内壁的中部固定连接有对称设置的自锁组件,且VDMOS管两侧的中部均开设有适配于自锁组件的卡槽。本实用新型在使用时,隔温层与密封条为VDMOS管共同构建密闭的隔温环境,使VDMOS管的管体温度不受散热元件影响而降温,可以维持高水平的雪崩击穿电压,屏蔽层则保护VDMOS管不受外界电场干扰,多角度提升VDMOS管的使用寿命,自锁组件无需额外的加固步骤,可以伴随隔温层和屏蔽层的下压过程自动锁合卡槽,降低器件的装配成本。

技术领域

本实用新型涉及电子元件技术领域,尤其涉及一种高EAS的VDMOS器件。

背景技术

VDMOS兼有双极晶体管和普通MOS器件的优点,这种电流垂直流动的双扩散MOS器件是电压控制型器件。在合适的栅极电压的控制下,半导体表面反型,形成导电沟道,于是漏极和源极之间流过适量的电流。

雪崩击穿都发生在掺杂浓度较低的PN结中。这种结的阻挡层很宽,随着反向电压的增大,阻挡层内部的电场增强,通过阻挡层的载流子在电场作用下的漂移速度加快,动能增大。当反向电压大到一定数值时,载流子获得的动能足以把束缚在共价键中的价电子碰撞出来,产生自由电子-空穴对。这个过程称为碰撞电离。新产生的自由电子-空穴对,再去碰撞其它中性原子,又产生新的自由电子-空穴对。随着温度的升高,晶格的热振动加剧,致使载流子运动的平均自由路程缩短。因此,在与原子碰撞前由外加电场加速获得的能量减小,发生碰撞电离的可能性也相应减小。在这种情况下,只有提高反向电压,进一步增强电场,才能发生雪崩击穿。

因此,雪崩击穿电压随温度升高而提高,具有正的温度系数,目前的电子器件通常配备散热组件,降低元器件的环境温度以及阻抗,对于VDMOS管,在温度降低后,EAS会同步降低,发生雪崩击穿的可能性随之增加,过低的环境温度对VDMOS管来说得不偿失,因此亟需设计一种高EAS的VDMOS器件来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种高EAS的VDMOS器件。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种高EAS的VDMOS器件,包括VDMOS管,所述VDMOS管的顶部套接有屏蔽层,且屏蔽层的外壁固定连接有隔温层,所述屏蔽层两侧内壁的中部固定连接有对称设置的自锁组件,且VDMOS管两侧的中部均开设有适配于自锁组件的卡槽,所述VDMOS管两侧的底部均固定连接有限位板,两个限位板的顶部均固定连接有密封条。

优选的,所述屏蔽层顶部内壁的中间位置嵌接有定位件,且定位件的底部粘接有缓冲垫,缓冲垫采用泡棉材质。

优选的,所述VDMOS管的宽度加上两个密封条的最大宽度等于屏蔽层内壁的宽度,且两个密封条相远离一侧的顶部均设置为斜角。

优选的,所述隔温层两侧内壁的底部均设置有凸条,且两个密封条相远离的一侧均开设有适配于凸条的横槽,密封条采用橡胶材质。

优选的,所述隔温层采用泡沫塑料材料,且屏蔽层采用铝合金材料。

优选的,所述自锁组件包括壳体、橡胶球、挡板、卡杆,且壳体固定连接于屏蔽层的内壁,壳体顶部的一侧开设有收纳腔,卡杆的一端通过销轴转动连接于收纳腔的底部内壁,橡胶球套接于卡杆远离壳体的一端,壳体靠近橡胶球一侧的底部倾斜固定有挡板,挡板靠近卡杆的一侧粘接有垫板,卡杆的杆体开设有适配于垫板的嵌槽,垫板为橡胶材质。

优选的,所述收纳腔顶部的内壁固定连接有导轨,且导轨的一侧滑动连接有滑块,滑块与卡杆之间转动连接有同一个转向杆,滑块一侧的顶部固定连接有推板,推板顶部的中间位置固定连接有滑杆,滑杆的外部套接有弹簧,滑杆的顶部与壳体的顶部滑动连接。

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