[实用新型]一种红外传感器WLP封装器件有效
申请号: | 202120802632.5 | 申请日: | 2021-04-19 |
公开(公告)号: | CN215069937U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 尤超;陈宗和;朱方元 | 申请(专利权)人: | 江苏鼎茂半导体有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/26 |
代理公司: | 苏州尚为知识产权代理事务所(普通合伙) 32483 | 代理人: | 陈钢 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 红外传感器 wlp 封装 器件 | ||
本实用新型涉及一种红外传感器WLP封装器件,包括下晶圆、在下晶圆端面形成的若干芯片、盖设在下晶圆上方的上晶圆、以及形成于下晶圆与上晶圆之间的若干支撑凸点;若干所述芯片对应的下晶圆与上晶圆之间均通过焊料固定封焊,内部结合支撑凸点的支撑作用形成固定的真空间隙;本实用新型主要应用于红外传感器,通过支撑凸点使上晶圆与下晶圆之间存在一个固定的间隙,在真空环境下封焊过程中起到支撑作用,避免传统设备控制存在误差及高度均匀性的问题,有效提高产品良率,制备方便快捷,节省成本。
技术领域
本实用新型涉及红外传感器晶圆级封装技术领域,特别涉及一种红外传感器WLP封装器件。
背景技术
红外传感器芯片需要在高真空环境下工作,因此对封焊的气密性要求很高,如果焊料达不到合适的厚度会导致气密性差甚至漏气,还有可能会溢锡导致良率降低,进而影响芯片性能;现有技术使用设备控制焊料高度,设备控制存在误差及高度均匀性问题,良率较低,并且增加控制模块会导致设备成本增加;因此本实用新型研制了一种红外传感器WLP封装器件,以解决现有技术中存在的问题,经检索,未发现与本实用新型相同或相似的技术方案。
实用新型内容
本实用新型目的是:提供一种红外传感器WLP封装器件,以解决现有技术中晶圆级封装时焊料厚度控制不当,而易引起芯片性能下降的问题。
本实用新型的技术方案是:一种红外传感器WLP封装器件,包括下晶圆、在下晶圆端面形成的若干芯片、盖设在下晶圆上方的上晶圆、以及形成于下晶圆与上晶圆之间的若干支撑凸点;若干所述芯片对应的下晶圆与上晶圆之间均通过焊料固定封焊,内部结合支撑凸点的支撑作用形成固定的真空间隙。
优选的,所述支撑凸点通过在芯片上植球形成,每个所述芯片上均设置有供植球的PAD区域。
优选的,植球形成的所述支撑凸点选用金球、锡球、铜球或其任意组合形成的合金中的一种,所述支撑凸点的熔点高于焊料的熔点。
优选的,所述支撑凸点通过蚀刻上晶圆下端面形成,与其对应的芯片上设置有供支撑凸点相抵的支撑区域。
优选的,所述支撑凸点通过单独在上晶圆下端面、或单独在下晶圆上端面、或共同在上晶圆下端面及下晶圆上端面上长出金属层形成,所述支撑凸点处在上晶圆上时,所述下晶圆对应的芯片上设置有供支撑凸点相抵的支撑区域。
优选的,所述焊料呈环形带状结构或若干点状围成的环形结构,并设置在下晶圆上端面或上晶圆下端面上,与所述焊料相对的下晶圆上端面及上晶圆下端面上均设置有镀金层。
优选的,所述焊料的厚度大于支撑凸点的高度。
优选的,所述支撑凸点与芯片相抵或连接的位置处在焊料内侧区域、或焊料外侧区域、或与焊料相对的镀金层上。
优选的,所述上晶圆下端面设置有吸气剂。
与现有技术相比,本实用新型的优点是:
(1)本实用新型主要应用于红外传感器,通过支撑凸点使上晶圆与下晶圆之间存在一个固定的间隙,在真空环境下封焊过程中起到支撑作用,避免传统设备控制存在误差及高度均匀性的问题,有效提高产品良率,制备方便快捷,节省成本。
(2)支撑凸点可通过在部分芯片上植球形成,也可通过蚀刻上晶圆下端面形成,还可通过单独在上晶圆下端面、或单独在下晶圆上端面、或共同在上晶圆下端面及下晶圆上端面上长出金属层形成;由于焊料需在高温下热熔连接上晶圆与下晶圆,过程中支撑凸点需始终起到支撑作用,因此植球形成的支撑凸点熔点必须高于焊料的熔点。
(3)上晶圆下端面上设置有吸气剂,有效保证封焊过程中,芯片内部的真空度,进一步提高产品性能。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
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