[实用新型]一种高压硅堆有效

专利信息
申请号: 202120781835.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN214848616U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 邓华鲜 申请(专利权)人: 乐山希尔电子股份有限公司;成都希尔芯科技有限公司
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L29/861
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 毛光军
地址: 614000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 高压
【权利要求书】:

1.一种高压硅堆,其特征在于:包括引脚Ⅰ(1)、引脚Ⅱ(2)、引脚Ⅲ(3)、硅堆本体和压塑于硅堆本体外部的封装外壳(4);

所述硅堆本体包括两个在同一平面平行设置的硅堆单元,分别为硅堆单元Ⅰ和硅堆单元Ⅱ;两个硅堆单元的结构相同,每个硅堆单元中都包含有若干个在同一平面并排设置、且依次同向串联的芯片堆(5);硅堆单元Ⅰ中处于负极端的芯片堆(5)的负极与硅堆单元Ⅱ处于正极端的芯片堆(5)的正极连接;

所述引脚Ⅰ(1)的一端穿过封装外壳(4),并与硅堆单元Ⅰ中处于正极端的芯片堆(5)的正极连接;所述引脚Ⅱ(2)的一端穿过封装外壳(4),并与硅堆单元Ⅱ中处于负极端的芯片堆(5)的负极连接;所述引脚Ⅲ(3)的一端穿过封装外壳(4)后,与硅堆单元Ⅰ中处于负极端的芯片堆(5)的负极连接,或与硅堆单元Ⅱ中处于正极端的芯片堆(5)的正极连接。

2.如权利要求1所述一种高压硅堆,其特征在于:所述芯片堆(5)包括负极底板(5.1)和芯片单元(5.2);芯片单元(5.2)的负极固定于负极底板(5.1)的顶部,包含有若干个从下至上依次叠加串联的芯片本体(5.2.1)。

3.如权利要求2所述一种高压硅堆,其特征在于:所述芯片单元(5.2)中,相邻两颗芯片本体(5.2.1)之间通过锡膏焊接。

4.如权利要求2所述一种高压硅堆,其特征在于:所述硅堆单元中包含有三个芯片堆(5),且两端芯片堆(5)的芯片单元(5.2)中包含有三颗芯片本体(5.2.1),中间芯片堆(5)的芯片单元(5.2)中包含有一颗芯片本体(5.2.1)。

5.如权利要求2所述一种高压硅堆,其特征在于:两个所述芯片堆(5)之间通过扁形铜条(6)连接,且扁形铜条(6)的一端焊接于一个芯片堆(5)的负极底板(5.1)上,扁形铜条(6)的另一端通过锡膏焊接于芯片单元(5.2)的正极端。

6.如权利要求5所述一种高压硅堆,其特征在于:所述引脚Ⅱ(2)与硅堆单元Ⅱ中处于负极端的芯片堆(5)的负极底板(5.1)一体设置;所述引脚Ⅲ(3)与硅堆单元Ⅰ中处于负极端的芯片堆(5)的负极底板(5.1)一体设置;所述引脚Ⅰ(1)通过扁形铜条(6)与硅堆单元Ⅰ中处于正极端的芯片堆(5)的芯片单元(5.2)正极端连接。

7.如权利要求1所述一种高压硅堆,其特征在于:所述封装外壳(4)由环氧树脂制成。

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