[实用新型]一种光罩镭雕用夹持机构有效

专利信息
申请号: 202120772006.6 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN214751323U 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 郑永庆;张衡;陈宏渊 申请(专利权)人: 艾斯尔光电(南通)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/80
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 王新爱
地址: 226000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光罩镭雕用 夹持 机构
【说明书】:

实用新型公开了一种光罩镭雕用夹持机构,包括光罩载台,光罩载台上开设放置槽,放置槽内对称安装两组夹紧组件,两组夹紧组件之间夹持待镭雕光罩,光罩载台下方设置底座,光罩载台与底座之间安装升降气缸和减震组件,本实用新型结构设计新颖,能够实现对光罩载台的升降,同时能够夹持不同尺寸的光罩,提高了光罩镭雕效率。

技术领域

本实用新型涉及光罩镭雕技术领域,具体为一种光罩镭雕用夹持机构。

背景技术

光罩(英文:Reticle, Mask):在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。业内又称光掩模版、掩膜版,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。

光罩镭雕时需要对光罩进行夹持固定,现有的夹持机构结构单一,无法有效的提高光罩镭雕效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光罩镭雕用夹持机构,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种光罩镭雕用夹持机构, 包括光罩载台,所述光罩载台上开设放置槽,所述放置槽内对称安装两组夹紧组件,两组所述夹紧组件之间夹持待镭雕光罩,所述光罩载台下方设置底座,所述光罩载台与所述底座之间安装升降气缸和减震组件。

优选的,本申请提供的一种光罩镭雕用夹持机构,其中,每组所述的夹紧组件包括顶推气缸和顶紧板,所述顶推气缸安装于放置槽侧壁和顶紧板之间,所述顶紧板表面包覆橡胶层。

优选的,本申请提供的一种光罩镭雕用夹持机构,其中,所述减震组件设置两组,每组所述的减震组件均包括导向柱和减震弹簧,所述减震弹簧套设于导向柱外部。

优选的,本申请提供的一种光罩镭雕用夹持机构,其中,所述底座包括上座体、下座体和减震板,所述减震板安装于上座体和下座体之间。

优选的,本申请提供的一种光罩镭雕用夹持机构,其中,所述减震板采用橡塑海绵板。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构设计新颖,能够实现对光罩载台的升降,同时能够夹持不同尺寸的光罩,提高了光罩镭雕效率;其中,采用的减震组件能够在光罩载台升降过程中起到减震作用,降低了光罩镭雕时的压力,此外,采用的底座还具有优异的减震和缓冲性能。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型底座结构示意图;

图中:光罩载台1、放置槽2、光罩3、底座4、升降气缸5、顶推气缸6、顶紧板7、橡胶层8、导向柱9、减震弹簧10、上座体11、下座体12和减震板13。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

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