[实用新型]一种光罩检测治具有效
申请号: | 202120771970.7 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN214749727U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 郑永庆;张衡;陈宏渊 | 申请(专利权)人: | 艾斯尔光电(南通)有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;B25B11/00 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 226000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 | ||
本实用新型公开了一种光罩检测治具,包括安装平台,安装平台上端面中心设在凸起光罩放置平台,凸起光罩放置平台表面均布若干吸气孔,安装平台四周分别安装第一挡块、第二挡块、第三挡块和第四挡块,第一挡块和第三挡块内侧分别安装第一顶推组件,第二挡块和第四挡块内侧分别安装第二顶推组件,本实用新型结构设计简单,能够有效的固定光罩,提高光罩的检测效率。
技术领域
本实用新型涉及光罩检测技术领域,具体为一种光罩检测治具。
背景技术
光罩:业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。
光罩在多次使用后需要进行检测,现有的检测治具结构单一,夹持稳定性差,因此,有必要进行改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光罩检测治具,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种光罩检测治具, 包括安装平台,所述安装平台上端面中心设在凸起光罩放置平台,所述凸起光罩放置平台表面均布若干吸气孔,所述安装平台四周分别安装第一挡块、第二挡块、第三挡块和第四挡块,所述第一挡块和第三挡块内侧分别安装第一顶推组件,所述第二挡块和第四挡块内侧分别安装第二顶推组件。
优选的,本申请提供的一种光罩检测治具,其中,所述第一顶推组件和第二顶推组件结构完全一致,包括顶推气缸和顶推块,所述顶推气缸尾端固定于挡块内侧,所述顶推气缸伸缩端与顶推块连接。
优选的,本申请提供的一种光罩检测治具,其中,所述顶推块采用L型结构。
优选的,本申请提供的一种光罩检测治具,其中,所述顶推块内侧壁包覆硅胶垫。
优选的,本申请提供的一种光罩检测治具,其中,所述凸起光罩放置平台表面还包覆耐磨膜。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构设计简单,能够有效的固定光罩,提高光罩的检测效率;其中,顶推组件中的顶推块采用L型结构,能够有效的压紧光罩边缘,放置光罩出现移动现象,进一步提高检测精度。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型凸起放置平台俯视图;
图3为本实用新型顶推组件结构示意图;
图中:安装平台1、凸起光罩放置平台2、吸气孔3、第一挡块4、第二挡块5、第三挡块6、第四挡块7、第一顶推组件8、第二顶推组件9、顶推气缸10、顶推块11、硅胶垫12、耐磨膜13。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、 “下”、 “内”、 “外”“前端”、“后端”、 “两端”、 “一端”、 “另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、 “第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
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