[实用新型]一种测量镭射距离的装置有效

专利信息
申请号: 202120756197.7 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN215261539U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 李汉生;蔡雪良;陆义;吴凯 申请(专利权)人: 昆山中辰矽晶有限公司
主分类号: G01B5/02 分类号: G01B5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215316 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 镭射 距离 装置
【权利要求书】:

1.一种测量镭射距离的装置,用以测量镭射制程工艺中字符离硅晶圆平边,V型槽,圆弧顶点的距离以及字符串的总长度,其特征在于,所述装置包括:测量平台,放置需测量的硅晶片;两滑行轨道,配置于所述测量平台的两侧;可移动的纵向滑块,配置于所述测量平台滑行轨道的上方,用以稳定地垂直滑动及固定左右侧滑块;左右侧滑板,用于移动确定测量边界及固定卡尺。

2.如权利要求1所述的一种测量镭射距离的装置,其特征在于,所述装置有一测量平台,用以放置并定位需测量的硅晶片,有两个分布在两侧平行的T型槽式的滑行轨道。

3.如权利要求1所述的一种测量镭射距离的装置,其特征在于,在测量平台有V槽及平边的定位机构,确保测量的准确度。

4.如权利要求1所述的一种测量镭射距离的装置,其特征在于,所述装置有一个纵向滑块,两侧有倒T型嵌入机构,纵向滑块为整体结构。

5.如权利要求1所述的一种测量镭射距离的装置,其特征在于所述装置中左右侧滑板都有倒T型嵌入装置,有固定卡尺的孔。

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