[实用新型]一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置有效

专利信息
申请号: 202120755559.0 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN214782126U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 魏文杰;黄余;阳锐;袁超;李浩 申请(专利权)人: 四川华岩机械设备制造有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 成都华复知识产权代理有限公司 51298 代理人: 任丽娜
地址: 610000 四川省成都市温江区*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控溅射 真空镀膜 装置 识别
【说明书】:

实用新型公开了一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,涉及真空镀膜技术领域。该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,包括工作台,所述工作台的内部设置有检正机构,检正机构的外侧设置有翻面机构,工作台的顶部固定安装有两组识别光栅。该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,能够对倒置的基片进行自动翻面处理,不需要人工进行操作,减轻了操作人员的劳动负担,提升了识别效率,能够在识别前对基片的尺寸进行测定,使得超尺寸的基片被拦截于装置外,避免出现加工错误的情况,同时还能对基片进行校正,确保其平直地被送入真空镀膜装置内进行镀膜,使基片镀膜均匀,保证镀膜质量。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体为一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置。

背景技术

磁控溅射真空镀膜装置在对基片进行镀膜前需要对基片进行识别,一方面检验基片规格参数正确,避免出现加工错误情况,另一方面起到计数功能,但基片识别过程中,部分基片正反面颠倒,大多识别装置缺乏翻面功能,需要人工对基片进行翻面,影响识别效率,实用性较差,不利于推广和使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,包括工作台,所述工作台的内部设置有检正机构,检正机构的外侧设置有翻面机构,工作台的顶部固定安装有两组识别光栅,工作台的两侧内壁上转动安装有五组承托辊,工作台的底部固定安装有弓形架。

优选的,所述翻面机构包括传动杆、翻面托杆、链轮、减速电机、链条、支架和导向辊,工作台的内侧底部固定安装有两组支座,两组支座之间转动安装有传动杆,传动杆的外壁上固定安装有两组翻面托杆,传动杆的一端延伸至工作台的后侧并固定安装有一组链轮,弓形架的内侧底部固定安装有减速电机,减速电机的输出轴通过联轴器固定安装有一组链轮,两组链轮上套设安装有链条,两组链轮通过链条传动连接,工作台的顶部固定安装有支架,支架的一侧外壁上固定安装有两组导向辊。

优选的,所述检正机构包括双向螺杆、导向杆、承载块、导向筒和摇把,工作台的两侧内壁上转动安装有两组双向螺杆和两组导向杆,双向螺杆上螺纹安装有两组承载块且呈中心对称分布,承载块上开设有穿孔,承载块穿过穿孔套设于导向杆上,承载块的顶部转动安装有两组导向筒,双向螺杆的一端延伸至工作台的外部并固定安装有摇把。

优选的,所述导向辊和导向筒的外壁上均套设安装有橡胶垫,减轻对基片造成的损伤,保证基片质量。

优选的,所述工作台的内侧底部设置有刻度线,刻度线位于双向螺杆的下方,方便操作人员根据基片规格调整两组导向筒之间的距离。

优选的,所述工作台的底部固定安装有四组支杆,工作台的底部与支杆的外壁之间固定安装有加强肋,提升支撑能力和稳定性。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

(1)、该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,通过传动杆、翻面托杆、减速电机、和导向辊的配合使用,能够对倒置的基片进行自动翻面处理,不需要人工进行操作,减轻了操作人员的劳动负担,提升了识别效率,为识别作业的安全、稳定运行提供保障,结构简单,使用便捷,利于推广和使用。

(2)、该磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置,通过双向螺杆、导向杆、承载块和导向筒的配合使用,能够在识别前对基片的尺寸进行测定,使得超尺寸的基片被拦截于装置外,避免出现加工错误的情况,同时还能对基片进行校正,确保其平直地被送入真空镀膜装置内进行镀膜,使基片镀膜均匀,保证镀膜质量,进一步提升了该装置的实用性和一体性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的俯视图;

图3为本实用新型的A部放大图。

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