[实用新型]一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置

权利要求书

1.一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的内部设置有检正机构(3)，检正机构(3)的外侧设置有翻面机构(2)，工作台(1)的顶部固定安装有两组识别光栅(4)，工作台(1)的两侧内壁上转动安装有五组承托辊(5)，工作台(1)的底部固定安装有弓形架(6)。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述翻面机构(2)包括传动杆(201)、翻面托杆(202)、链轮(203)、减速电机(204)、链条(205)、支架(206)和导向辊(207)，工作台(1)的内侧底部固定安装有两组支座，两组支座之间转动安装有传动杆(201)，传动杆(201)的外壁上固定安装有两组翻面托杆(202)，传动杆(201)的一端延伸至工作台(1)的后侧并固定安装有一组链轮(203)，弓形架(6)的内侧底部固定安装有减速电机(204)，减速电机(204)的输出轴通过联轴器固定安装有一组链轮(203)，两组链轮(203)上套设安装有链条(205)，两组链轮(203)通过链条(205)传动连接，工作台(1)的顶部固定安装有支架(206)，支架(206)的一侧外壁上固定安装有两组导向辊(207)。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述检正机构(3)包括双向螺杆(301)、导向杆(302)、承载块(303)、导向筒(304)和摇把(305)，工作台(1)的两侧内壁上转动安装有两组双向螺杆(301)和两组导向杆(302)，双向螺杆(301)上螺纹安装有两组承载块(303)且呈中心对称分布，承载块(303)上开设有穿孔，承载块(303)穿过穿孔套设于导向杆(302)上，承载块(303)的顶部转动安装有两组导向筒(304)，双向螺杆(301)的一端延伸至工作台(1)的外部并固定安装有摇把(305)。

4.根据权利要求2所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述导向辊(207)和导向筒(304)的外壁上均套设安装有橡胶垫。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述工作台(1)的内侧底部设置有刻度线，刻度线位于双向螺杆(301)的下方。

6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射真空镀膜装置用的基片识别装置，其特征在于：所述工作台(1)的底部固定安装有四组支杆，工作台(1)的底部与支杆的外壁之间固定安装有加强肋。