[实用新型]一种单晶硅片自动泡酸装置有效
| 申请号： | 202120712421.2 | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN214313161U | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 傅昭林;张超;赵富军 | 申请（专利权）人： | 成都青洋电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673;H01L21/67;H01L21/677;B08B3/04 |
| 代理公司： | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人： | 詹权松 |
| 地址： | 611200 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 自动 装置 | ||
1.一种单晶硅片自动泡酸装置，包括工作台（1）和花篮移动装置（2），其特征在于：
所述花篮移动装置（2）安装在工作台（1）上，
所述花篮移动装置（2）包括支撑架（201）和横梁（202），
所述支撑架（201）上设有固定架（203），
所述固定架（203）上安装有伸缩气缸（204），
所述横梁（202）的中部安装在伸缩气缸（204）上，两端分别安装在支撑架（201）的滑槽上，
所述横梁（202）上安装有多个花篮抓手（205），
所述工作台（1）两端分别开设有插片区（101）和转移区（104），
所述插片区（101）和转移区（104）之间设有酸液浸泡区（102），
所述酸液浸泡区（102）与所述插片区（101）和所述转移区（104）之间均设有清水池区（103），
所述插片区（101）内设有花篮（105）。
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片自动泡酸装置，其特征在于：所述工作台（1）两侧设有滑轨（106）。
3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片自动泡酸装置，其特征在于：所述支撑架（201）底部设有与滑轨（106）配合的气动滑块。
4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片自动泡酸装置，其特征在于：所述花篮（105）上设有与花篮抓手（205）配合的提手（107）。
5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片自动泡酸装置，其特征在于：所述酸液浸泡区（102）和清水池区（103）内均设有固定花篮（105）底部的卡槽（3）。
6.根据权利要求1所述的一种单晶硅片自动泡酸装置，其特征在于：所述花篮（105）内设有多个放置单晶硅片的卡槽。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
