[实用新型]一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构

权利要求书

1.一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，包括相机外壳(1)，其特征在于：所述相机外壳(1)的底端设置有伽马屏蔽端盖(2)，所述伽马屏蔽端盖(2)上端位于相机外壳(1)的内部固定设置有中子屏蔽支撑板(3)，所述中子屏蔽支撑板(3)的上端固定安装有摄像头(4)，所述摄像头(4)外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)，所述伽马屏蔽前板(5)的上端固定设置有遮光板(7)，所述相机外壳(1)的上端固定设置有相机镜头盖板(8)，所述相机镜片盖板(8)的上端通过螺栓固定设置有镜头盖(9)，所述镜头盖(9)的上端两侧固定设置有灯罩安装座(10)，所述灯罩安装座(10)上安装有照明灯罩(11)，所述照明灯罩(11)的内部安装有LED照明灯(12)，所述相机镜头盖板(8)的内侧固定设置有相机镜头(13)，所述镜头盖(9)的底端位于相机镜头盖板(8)内部固定设置有反光镜支架(14)，所述反光镜支架(14)上固定安装有反光镜(15)。

2.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述反光镜(15)背部开设有螺纹孔，所述反光镜(15)通过螺纹孔固定安装在反光镜支架(14)上。

3.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机外壳(1)和镜头盖(9)之间形成密封腔体，所述相机镜头(13)、反光镜(15)和反光镜支架(14)均设置在密封腔体内部。

4.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机镜头(13)采用抗辐射玻璃制作而成，所述相机镜头(13)的镜片面型为球面设置。

5.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述相机外壳(1)为圆柱形设置，所述相机外壳(1)采用10mm厚的钨镍铁合金制作而成。

6.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)均为盘状设置，中心开设有通槽，所述摄像头(4)贯穿伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6)设置，所述伽马屏蔽前板(5)采用钨镍铁合金HA180材料加工制成，所述中子屏蔽前板(6)采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成。

7.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述中子屏蔽支撑板(3)的上端开设有安装槽，所述摄像头(4)的底端嵌入安装在安装槽中，所述中子屏蔽支撑板(3)采用硼含量为20-30％的含硼聚乙烯材料加工制成，所述中子屏蔽前板(6)与中子屏蔽支撑板(3)通过螺栓连接为一体。

8.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构，其特征在于：所述伽马屏蔽端盖(2)通过螺栓与相机外壳(1)固定连接，所述伽马屏蔽端盖(2)采用钨镍铁合金HA180材料加工制成。