[实用新型]一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备

说明书

本实用新型公开了一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，所述PET承载单元的下方设有固定设有圆形基片承载单元，操作台上固定安装有厚度控制单元，且厚度控制单元分为相同的两组分别位于圆形基片承载单元的两侧，所述PET承载单元的下端右侧固定安装有PET，所述圆形基片承载单元的上端固定安装有基片。因为旋涂用的胶体要满足良好的流动性，保证结构填充完整，一般会添加溶剂导致其无法填充较深的纳米结构，所以无法旋涂匀胶的方式获得均匀的大于10微米的胶层的问题，本实用新型能够精确控制压印胶层的最终厚度，并保证整片胶层厚度的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印技术领域，具体为一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备。

背景技术

纳米压印技术是华裔科学家周郁在1995年发明的一种成本低廉，分辨率高的光刻技术。纳米应用技术被誉为“改变世界的十大新兴技术”之一，该技术受到科研学者的广泛关注。

晶圆上纳米结构深度较小的旋涂即可使胶体填充完全。有的晶圆表面的纳米结构深度超过10微米，例如微透镜诊疗，匀光片等。因为旋涂用的胶体要满足良好的流动性，保证结构填充完整，一般会添加溶剂导致其无法填充较深的纳米结构，所以无法旋涂匀胶的方式获得均匀的大于10微米的胶层，这种情况需要通过点胶压印的方式解决。

在点胶压印时，两个参数决定了最终压印的质量：1.压印胶层的最终厚度； 2.整片胶层厚度的均匀性。以上两个指标无法通过调整压印压力获得，需要主动控制晶圆和PET，或者工作模具与基片的距离。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，包括PET承载单元，所述PET承载单元的下方设有固定设有圆形基片承载单元，操作台上固定安装有厚度控制单元，且厚度控制单元分为相同的两组分别位于圆形基片承载单元的两侧，所述PET承载单元的下端右侧固定安装有PET，所述圆形基片承载单元的上端固定安装有基片。

优选的，所述PET承载单元包括电机、伸缩杆、连接块、刚性吸附板、紫外灯、气管、石英板和对位孔，设备壳体的两端固定安装有电机，所述电机的底端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆的下端固定连接有连接块，所述连接块的底端固定连接有刚性吸附板，所述刚性吸附板的上端固定安装有紫外灯，所述刚性吸附板的内部固定安装有气管，所述紫外灯和刚性吸附板的下端固定安装有石英板，且真空槽的外侧设有对位槽。

优选的，所述刚性吸附板包括真空槽和真空孔，所述刚性吸附板下表面设有真空槽，所述刚性吸附板位于右侧的内部固定安装有气管，且气管通过真空孔与真空槽连通。

优选的，所述圆形基片承载单元包括真空槽、真空孔、溢流槽、加热块、气管和真空泵，所述圆形基片承载单元上表面根据基片的尺寸设置有不同尺寸的真空槽，且每个尺寸的真空槽对应一个真空孔，所述圆形基片承载单元上表面设有溢流槽，所述圆形基片承载单元的底端固定安装有加热块，所述真空孔中固定安装有气管，所述气管的底端固定连接有真空泵。

优选的，所述厚度控制单元包括刚性挡块、升降杆和电机，控制台的上端固定安装有刚性挡块，所述刚性挡块的下端固定连接有升降杆，所述升降杆的下端固定连接有电机，所述电机固定安装在控制台上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备设计合理，厚度控制单元控制晶圆和PET或者工作模具与基片的距离，可控制压印最终胶层的厚度并保证整片胶层厚度的均匀性，解决了因为旋涂无法填充较深的纳米结构的问题。

附图说明

图1本实用新型设备的结构示意图；

图2本实用新型设备压印时的结构示意图；

图3本实用新型设备刚性吸附板14的俯视图；