[实用新型]一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备

权利要求书

1.一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，包括PET承载单元(1)，其特征在于，所述PET承载单元(1)的下方设有固定设有圆形基片承载单元(2)，操作台上固定安装有厚度控制单元(3)，且厚度控制单元(3)分为相同的两组分别位于圆形基片承载单元(2)的两侧，所述PET承载单元(1)的下端右侧固定安装有PET(4)，所述圆形基片承载单元(2)的上端固定安装有基片(5)。

2.根据权利要求1所述的一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，其特征在于，所述PET承载单元(1)包括电机(11)、伸缩杆(12)、连接块(13)、刚性吸附板(14)、紫外灯(15)、气管(16)、石英板(17)和对位槽(18)，设备壳体的两端固定安装有电机(11)，所述电机(11)的底端固定连接有伸缩杆(12)，所述伸缩杆(12)的下端固定连接有连接块(13)，所述连接块(13)的底端固定连接有刚性吸附板(14)，所述刚性吸附板(14)的上端固定安装有紫外灯(15)，所述刚性吸附板(14)的内部固定安装有气管(16)，所述紫外灯(15)和刚性吸附板(14)的下端固定安装有石英板(17)，且真空槽(141)的外侧设有对位槽(18)。

3.根据权利要求2所述的一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，其特征在于，所述刚性吸附板(14)包括真空槽(141)和真空孔(142)，所述刚性吸附板(14)下表面设有真空槽(141)，所述刚性吸附板(14)位于右侧的内部固定安装有气管(16)，且气管(16)通过真空孔(142)与真空槽(141)连通。

4.根据权利要求1所述的一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，其特征在于，所述圆形基片承载单元(2)包括真空槽(21)、真空孔(22)、溢流槽(23)、加热块(24)、气管(25)和真空泵(26)，所述圆形基片承载单元(2)上表面根据基片(5)的尺寸设置有不同尺寸的真空槽(21)，且每个尺寸的真空槽(21)对应一个真空孔(22)，所述圆形基片承载单元(2)上表面设有溢流槽(23)，所述圆形基片承载单元(2)的底端固定安装有加热块(24)，所述真空孔(22)中固定安装有气管(25)，所述气管(25)的底端固定连接有真空泵(26)。

5.根据权利要求1所述的一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备，其特征在于，所述厚度控制单元(3)包括刚性挡块(31)、升降杆(32)和电机(33)，控制台的上端固定安装有刚性挡块(31)，所述刚性挡块(31)的下端固定连接有升降杆(32)，所述升降杆(32)的下端固定连接有电机(33)，所述电机(33)固定安装在控制台上。