[实用新型]基板承载固定装置及薄膜沉积设备有效

专利信息
申请号: 202120610084.6 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN214736062U 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 林俊成;沈祐德;郭大豪;郑啓鸿 申请(专利权)人: 鑫天虹(厦门)科技有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 361101 福建省厦门市厦门火*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 承载 固定 装置 薄膜 沉积 设备
【权利要求书】:

1.一种基板承载固定装置,用以承载及固定至少一基板,其特征在于,包括:

一承载盘,包括一承载面用以承载该基板;

一第一盖环,位于该承载盘的上方,并包括一第一开口;及

一第二盖环,放置在该第一盖环上,其中该第一盖环的周长大于该第二盖环,且该第二盖环大于该第一开口,该第一盖环用以承载该第二盖环,当该承载盘朝该第二盖环位移时,该第二盖环会接触该基板,以将该基板固定在该承载盘的该承载面。

2.根据权利要求1所述的基板承载固定装置,其特征在于,包括:

一承载构件,设置在该承载盘上,并位于该基板的下方;及

至少一升降单元,连接该承载构件,并用以带动该承载构件相对于该承载盘位移,其中该升降单元带动该承载构件离开该承载盘时,该承载构件会带动该基板离开该承载盘的该承载面。

3.根据权利要求2所述的基板承载固定装置,其特征在于,其中该承载构件包括一第一承载部及一第二承载部,该第一承载部包括一缺口,而该第二承载部则位于该缺口内,该升降单元连接并带动该第一承载部及该基板相对于该承载盘位移。

4.根据权利要求1所述的基板承载固定装置,其特征在于,其中该第一盖环包括至少一第一对位部,而该第二盖环则包括至少一第二对位部,该第二盖环连接该第一盖环时,该第二对位部会对准该第一对位部,以对位该第二盖环及该第一盖环。

5.根据权利要求1所述的基板承载固定装置,其特征在于,包括一环形构件连接该承载盘,该环形构件位于该承载盘的该承载面的周围,其中该环形构件及该第一盖环包括至少一对应的对位部,用以对位该环形构件及该第一盖环。

6.一种薄膜沉积设备,其特征在于,包括:

一腔体,包括一容置空间;

至少一挡件,位于该腔体的该容置空间内,其中该挡件的一端具有一环形凸缘,并于该环形凸缘的内侧形成一开口;

一基板承载固定装置,位于该容置空间内,并用以承载至少一基板,包括:

一承载盘,包括一承载面用以承载该基板;

一第一盖环,设置在该挡件的该环形凸缘上,并包括一第一开口;及

一第二盖环,放置在该第一盖环上,其中该第一盖环的周长大于该第二盖环,且该第二盖环大于该第一开口,该第一盖环用以承载该第二盖环;及

一支撑件,连接并带动该承载盘相对于该挡件位移,其中该支撑件带动该承载盘朝该挡件位移时,该第二盖环会接触该基板,以将该基板固定在该承载盘的该承载面。

7.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备,其特征在于,包括:

一承载构件,设置在该承载盘上,并位于该基板的下方;及

至少一升降单元,连接该承载构件,并用以带动该承载构件相对于该承载盘位移,其中该升降单元带动该承载构件离开该承载盘时,该承载构件会带动该基板离开该承载盘的该承载面。

8.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备,其特征在于,其中该承载构件包括一第一承载部及一第二承载部,该腔体则包括一基板进出口,该第一承载部包括一缺口朝向该基板进出口,该第二承载部位于该缺口内,而该升降单元连接并带动该第一承载部及该基板相对于该承载盘位移。

9.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备,其特征在于,其中该第一盖环包括至少一第一对位部,而该第二盖环则包括至少一第二对位部,该第二盖环连接该第一盖环时,该第二对位部会对准该第一对位部,以对位该第二盖环及该第一盖环。

10.根据权利要求6所述的薄膜沉积设备,其特征在于,包括一环形构件连接该承载盘,该环形构件位于该承载盘的该承载面的周围,其中该环形构件及该第一盖环包括至少一对应的对位部,用以对位该环形构件及该第一盖环。

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