[实用新型]清洗用治具有效
| 申请号: | 202120566987.9 | 申请日: | 2021-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN215466779U | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | 新村聪;高柳康治;柴崎健太;稻田博一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | B08B9/08 | 分类号: | B08B9/08;B08B9/093;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 用治具 | ||
本实用新型提供一种清洗用治具,当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时,与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。该清洗用治具呈圆盘状,用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中清洗所述容器内,在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部,在所述周缘顶部与所述周缘底部之间整周地形成有喷出口,在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔,所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。
技术领域
本公开涉及一种清洗用治具。
背景技术
在专利文献1中,公开了一种清洗用治具,该清洗用治具能够在旋转涂布装置中用于容器的清洗,该旋转涂布装置向在所述容器内被可旋转地保持的基板上滴下处理液,并通过该基板的旋转向该基板上涂布所述处理液的膜,该清洗用治具具备外周面,该外周面形成为在所述旋转涂布装置中该清洗用治具被旋转时,能够保持向背面供给并通过旋转来被引导的溶剂并使其向所述容器内飞散。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-16315号公报
实用新型内容
实用新型要解决的问题
本公开所涉及的技术是当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时,与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。
用于解决问题的方案
本公开的一个方式提供一种清洗用治具,该清洗用治具呈圆盘状,用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中,在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内,该清洗用治具的特征在于,在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部,在所述周缘顶部与所述周缘底部之间整周地形成有喷出口,在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔,所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。
也可以是,通过所述周缘顶部和所述周缘底部形成所述喷出口。
也可以是,在所述孔的入口部与所述喷出口之间形成的引导通路具有随着朝向所述喷出口而流路截面积变大的形状。
也可以是,所述孔在俯视时是圆弧状。
也可以是,与所述周缘顶部相比,所述周缘底部向外侧突出。
也可以是,所述多个孔相互独立地连通到所述周缘底部,在俯视时所述多个孔与所述周缘底部在所述周缘底部的靠该清洗用治具的中央侧的位置处连通。
实用新型的效果
根据本公开,当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时,能够与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。
附图说明
图1是示意性地示出应用实施方式所涉及的清洗用治具的旋转涂布装置的侧面截面的说明图。
图2是实施方式所涉及的清洗用治具的俯视图。
图3是图2的A-A线截面图。
图4是图2的B-B线截面图。
图5是图2的C-C线截面图。
图6是示出在图1的旋转涂布装置的旋转吸盘安装有实施方式所涉及的清洗用治具时的、清洗用治具的周缘部与外杯的位置关系的说明图。
图7是示出图6中的相对低速旋转时的状况的说明图。
图8是示出从图7的状态起以相对高速旋转时的状况的说明图。
附图标记说明
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