[实用新型]一种自动靶材清洗盖板有效

专利信息
申请号: 202120524050.5 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN214496457U 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 吴伟亮;冯刚;汪毅;梁海洋;邓永宏 申请(专利权)人: 苏州星蓝纳米技术有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/54
代理公司: 江苏昆成律师事务所 32281 代理人: 刘尚轲
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 清洗 盖板
【说明书】:

为了解决如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题,本实用新型提出一种自动靶材清洗盖板,正常状态下,坩埚盖板与坩埚底座上表面的夹角为180°,在控制器的控制下,会启动驱动电机,使得转动驱轴带动坩埚盖板开始转动,直至转至坩埚盖板与坩埚底座上表面的夹角为0°,且坩埚盖板的一端卡在压紧板的下方,此时,进行源材料扩散操作,操作完成后,操作者通过按压控制系统的复位按钮,在控制器控制下,液压驱杆会带动压紧板向固定板侧靠近,使得坩埚盖板卡在压紧板下方的一端暴露出来,使得坩埚盖板转回至正常状态后,即完成了整个操作流程,防止源材料扩散至蒸镀机内部的其他部件上造成源材料的浪费,结构简单,自动化程度高。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀机技术领域,较为具体的,涉及到一种自动靶材清洗盖板。

背景技术

淀积方法用于将来自源的淀积材料传递到衬底以形成薄膜或涂层。在淀积方法中,一种最公知的蒸发技术是电子束蒸发,该技术也被称为e-束蒸发。淀积材料通常由金属、金属或非金属化合物组成,诸如金、银、镍铬合金或二氧化硅。通常,淀积材料被置于坩埚中,以及要被涂敷的衬底以距离坩埚固定距离或可变距离进行放置。电子束指向坩埚中的源材料,使得淀积材料从坩埚中蒸发出来并粘附到衬底上。该过程在真空室内进行。

通过将难熔金属丝加热至2000摄氏度以上的热电子发射方式来生成电子束。电子束被电磁场引向源材料。在实际操作中,通过开启/关闭加热电源来控制蒸发。可能需要几分钟来加热细丝以进行稳定的电子发射和蒸发。即使当加热电源关闭时,发射和蒸发也要保持特定的时间周期。从而,在快速脉冲模式中不能执行该操作,故而如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此,为了解决如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题,本实用新型提出一种自动靶材清洗盖板,正常状态下,坩埚盖板与坩埚底座上表面的夹角为180°,在控制器的控制下,会启动驱动电机,使得转动驱轴带动坩埚盖板开始转动,直至转至坩埚盖板与坩埚底座上表面的夹角为 0°,且坩埚盖板的一端卡在压紧板的下方,此时,进行源材料扩散操作,操作完成后,操作者通过按压控制系统的复位按钮,在控制器控制下,液压驱杆会带动压紧板向固定板侧靠近,使得坩埚盖板卡在压紧板下方的一端暴露出来,使得坩埚盖板转回至正常状态后,即完成了整个操作流程,防止源材料扩散至蒸镀机内部的其他部件上造成源材料的浪费,结构简单,自动化程度高。

一种自动靶材清洗盖板,包括坩埚底座1、坩埚盖板2、翻转组件3,其特征在于:坩埚底座1的上方通过翻转组件3设置有坩埚盖板2,所述翻转组件3包括连接件31、转动驱轴32和两个用于稳定所述转动驱轴32的弧形限位板33,坩埚底座1上表面左侧沿坩埚底座1宽度方向设置有弧形凹槽,所述转动驱轴32设置在弧形凹槽内,且两个所述弧形限位板33分别架设在弧形凹槽的前后两端,坩埚盖板2一端通过连接件31与转动驱轴32连接。

进一步的,转动驱轴32的输入端连接有驱动电机。

进一步的,驱动电机与真空镀膜机的控制系统连接,通过控制系统控制转动驱轴32的运动。

进一步的,还包括用于压紧固定所述坩埚盖板2的压紧机构,所述压紧机构包括水平设置的液压驱杆41、“7”形的且可沿坩埚底座1上表面左右滑动的压紧板42和竖直设置在坩埚底座1上表面右侧的固定板43,所述液压驱杆41一端与固定板43连接,另一端与所述压紧板42的右侧面连接。

进一步的,所述坩埚底座1敞口处边缘的均设置有缓冲胶垫。

进一步的,坩埚盖板2侧边设有密封圈槽,密封圈槽内设有密封圈,使得坩埚盖板2与坩埚底座1敞口处连接时增加密闭性。

进一步的,所述坩埚盖板2可发生0°至180°的翻转运动。

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