[实用新型]一种无磁旋转校准辅助测量平台有效

专利信息
申请号: 202120512986.6 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN214372528U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 殷超;林海霞 申请(专利权)人: 武汉深海蓝科技有限公司
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙) 42265 代理人: 邱琳
地址: 430034 湖北省武汉市硚口区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 旋转 校准 辅助 测量 平台
【说明书】:

实用新型公开了一种无磁旋转校准辅助测量平台。将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

技术领域

本实用新型涉及校准平台技术领域,尤其涉及一种无磁旋转校准辅助测量平台。

背景技术

目前,对于无磁辅助校准辅助测量,一种常见的手段是由无磁校准单轴平台、三角架、搬运箱和无磁推车组成,可实现磁传感器、数字罗盘等磁学器件的室外标定、数据辅助测量等功能,但是,这种校准平台存在结构复杂、加工制造复杂、体积大的缺点。

实用新型内容

本实用新型通过提供一种无磁旋转校准辅助测量平台,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

本实用新型提供了一种无磁旋转校准辅助测量平台,包括:支架、上平面、下平面、旋转轴承及圆环刻度尺;所述下平面设置在所述支架上;所述旋转轴承设置在所述下平面上;所述上平面设置在所述旋转轴承上;所述圆环刻度尺设置在所述上平面上。

进一步地,还包括:微调标尺;所述微调标尺设置在所述下平面上;所述微调标尺的刻度与所述圆环刻度尺的刻度配合。

进一步地,所述微调标尺的刻度在所述圆环刻度尺的刻度的外侧。

进一步地,还包括:地脚调平螺栓;在所述支架的底部有安装孔;所述地脚调平螺栓设置在所述安装孔中。

进一步地,所述安装孔是通孔。

进一步地,所述安装孔是螺纹盲孔。

进一步地,还包括:安装平台;所述安装平台设置在所述上平面的中心;所述圆环刻度尺在所述安装平台的外侧。

本实用新型中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:

将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台的主视图;

图2为图1的俯视图;

其中,1-支架,2-上平面,3-下平面,4-旋转轴承,5-圆环刻度尺,6-微调标尺,7-地脚调平螺栓,8-安装平台,9-装夹安装孔,10-铝合金角码。

具体实施方式

本实用新型实施例通过提供一种无磁旋转校准辅助测量平台,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

本实用新型实施例中的技术方案为解决上述问题,总体思路如下:

将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

为了更好地理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。

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