[实用新型]一种无磁旋转校准辅助测量平台有效

专利信息
申请号: 202120512986.6 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN214372528U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 殷超;林海霞 申请(专利权)人: 武汉深海蓝科技有限公司
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙) 42265 代理人: 邱琳
地址: 430034 湖北省武汉市硚口区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 旋转 校准 辅助 测量 平台
【权利要求书】:

1.一种无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,包括:支架、上平面、下平面、旋转轴承及圆环刻度尺;所述下平面设置在所述支架上;所述旋转轴承设置在所述下平面上;所述上平面设置在所述旋转轴承上;所述圆环刻度尺设置在所述上平面上。

2.如权利要求1所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:微调标尺;所述微调标尺设置在所述下平面上;所述微调标尺的刻度与所述圆环刻度尺的刻度配合。

3.如权利要求2所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述微调标尺的刻度在所述圆环刻度尺的刻度的外侧。

4.如权利要求1所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:地脚调平螺栓;在所述支架的底部有安装孔;所述地脚调平螺栓设置在所述安装孔中。

5.如权利要求4所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述安装孔是通孔。

6.如权利要求4所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述安装孔是螺纹盲孔。

7.如权利要求1-6中任一项所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:安装平台;所述安装平台设置在所述上平面的中心;所述圆环刻度尺在所述安装平台的外侧。

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