[实用新型]一种光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置有效

专利信息
申请号: 202120476142.0 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN214311294U 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 吴想;戴文海 申请(专利权)人: 江西维易尔半导体设备有限公司
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38
代理公司: 南昌合达信知识产权代理事务所(普通合伙) 36142 代理人: 陈龙
地址: 334000 江西省上饶*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 胶匀胶 显影 冷水机 散热 装置
【说明书】:

本实用新型涉及显影机技术领域,尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置,其包括第一散热块和第二散热块,第一散热块和第二散热块之间固定设有第三散热块,第一散热块、第二散热块和第三散热块的内部分别设有用于散热通水的过水槽,第一散热块的一侧设有与其内过水槽连通的第一进水接口,第二散热块的一侧设有与其内过水槽连通的第一出水接口,第一散热块内的过水槽和第二散热块内的过水槽之间还设有用于连通的连接管,第三散热块的两侧分别设有与其内过水槽连通的第二进水接口和第二出水接口,其不仅结构简单,所需成本低,且降温效果好,恒温性优,操作性强,可以满足市场需求。

技术领域

本实用新型涉及显影机技术领域,尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置。

背景技术

在半导体行业中,光刻和显影是两个重要的步骤,显影过程在显影机上完成,显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程,显影的基本过程是:对准曝光(光刻机)→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。

而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片降温到23度左右,因此对胶水的温度要求也相对精准,现有技术中对胶水进行降温散热的方式主要是通过水泵配合散热块进行降温,但是现有的散热块采用的是浇筑铝制作工艺,其内水管制作难度大,且浇筑成本太高,降温效果一般,在生产量小的情况下,浇筑成型的方式不具备操作性,无法满足市场需求。

发明内容

为了克服上述技术缺陷,本实用新型的目的是提供一种结构简单,所需成本低,降温效果好,恒温性优,操作性强,可以满足市场需求的光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置。

为实现上述目的,本发明通过以下技术方案予以实现:

一种光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置,包括第一散热块和第二散热块,所述第一散热块和第二散热块之间固定设有第三散热块,所述第一散热块、第二散热块和所述第三散热块的内部分别设有用于散热通水的过水槽,所述第一散热块的一侧设有与其内过水槽连通的第一进水接口,所述第二散热块的一侧设有与其内过水槽连通的第一出水接口,所述第一散热块内的过水槽和第二散热块内的过水槽之间还设有用于连通的连接管,所述第三散热块的两侧分别设有与其内过水槽连通的第二进水接口和第二出水接口。

进一步的,所述第一散热块和第二散热块与所述第三散热块之间分别固定设有制冷片。

进一步的,所述第三散热块装有所述第二出水接口的一侧上还安装有温度传感器。

进一步的,所述第一散热块上还设有用于安装所述连接管的第一连接孔,所述第二散热块上还设有用于安装所述连接管的第二连接孔。

进一步的,所述连接管分别与所述第一连接孔和所述第二连接孔连接的两端分别设有密封圈。

进一步的,所述第一散热块、第二散热块和所述第三散热块上分别设有多个便于其固定连接的定位安装孔。

进一步的,所述第一散热块、第二散热块和所述第三散热块内的所述过水槽分别呈“S”形分布。

综上所述,本实用新型的优点是:该散热装置,把第一散热块、第二散热块和第三散热块改为一体式,省略了水管制作过程,结构简单;采用连接管将第一散热块内的过水槽和第二散热块内的过水槽连接,且在两连接处设有密封圈,在保证密封性的同时降低了成本;三个散热块内分别设有呈“S”形的过水槽,大大提高了散热降温的效果,恒温性优,操作性强,可以满足市场需求。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的结构示意图;

图2是本实用新型一实施例的爆炸结构示意图;

图3是本实用新型中第一散热块的结构侧视示意图;

图4是图3中沿A-A线的剖视示意图;

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