[实用新型]一种双层衍射元件及其压印母版

说明书

本实用新型涉及一种双层衍射元件及其压印母版，双层衍射元件，包括：基层(11)，设置在所述基层(11)上的第一衍射层(12)，与所述第一衍射层(12)嵌合设置的第二衍射层(13)；所述第一衍射层(12)与所述第二衍射层(13)的总厚度n满足：n≤40μm；所述第一衍射层(12)与所述第二衍射层(13)之间的间隔小于或等于1μm。本实用新型的双层衍射元件能够在具有优良的衍射效果的情况下，做的更薄使得其体积能够被有效降低，进而可适用于不同的光学产品中，适用范围广。

技术领域

本实用新型涉及光学元件领域，尤其涉及一种双层衍射元件及其压印母版。

背景技术

随着技术的发展，在光学系统中的应用衍射元件的设计越来越普遍。这些衍射元件基本为单层衍射元件。但这种单层衍射元件只能在单一波长实现某一衍射级的高衍射效率，随着波长逐渐偏离设计波长，衍射效率逐渐下降。如含有单层衍射元件的折衍混合光学系统用在可见光波段成像，则降低了成像对比度，影响光学系统成像颜色的真实性，极大的影响光学系统成像质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种双层衍射元件及其压印母版。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种双层衍射元件，包括：基层，设置在所述基层上的第一衍射层，与所述第一衍射层嵌合设置的第二衍射层；

所述第一衍射层与所述第二衍射层的总厚度n满足：n≤40μm；

所述第一衍射层与所述第二衍射层之间的间隔小于或等于1μm。

根据本实用新型的一个方面，所述第一衍射层与所述第二衍射层的总厚度n满足：30μm≤n≤40μm。

根据本实用新型的一个方面，所述第一衍射层上设置有微结构；

所述微结构为纳米压印结构。

根据本实用新型的一个方面，在波段为470nm-650nm的宽光谱范围内，衍射效率大于或等于85％。根据本实用新型的一个方面，所述第一衍射层的折射率n1满足：在波段为470nm-650nm的宽光谱范围内，1.566＜n1＜1.586；

所述第一衍射层的凹陷深度d1满足：5μm＜d1＜30μm。

根据本实用新型的一个方面，所述第二衍射层的折射率n2满足：在波段为470nm-650nm的宽光谱范围内，1.542＜n2＜1.562；

所述第二衍射层(13)的凹陷深度d2满足：5μm＜d2＜30μm。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种用于前述的双层衍射元件的压印母版，包括：母版本体，设置在所述母版本体上的压印区域；

所述压印区域在所述母版本体上阵列设置有多个；

所述压印区域上设置有与所述第一衍射层上的微结构相匹配的压印微结构。

根据本实用新型的一个方面，所述母版本体的平整度PV满足：PV20μm。

根据本实用新型的一个方面，所述压印区域包括具有所述压印微结构的有效工作区域和环绕所述有效工作区域非工作区域；

所述非工作区域的宽度d满足：0.1≤d≤0.5mm。。

根据本实用新型的一个方面，采用PDMS材料制成。

根据本实用新型的一种方案，本实用新型的双层衍射元件能够在具有优良的衍射效果的情况下，做的更薄使得其体积能够被有效降低，进而可适用于不同的光学产品中，适用范围广。

根据本实用新型的一种方案，本实用新型的双层衍射元件的衍射层的总厚度设置在上述范围内保证了整个衍射元件的优良使用效果，成品良率高且用料少成本体。