[实用新型]多晶硅还原炉有效
| 申请号： | 202120443526.2 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN216191105U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 吴锋;黄金发;韩秀娟 | 申请（专利权）人： | 江苏鑫华半导体材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 肖阳 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 | ||
【权利要求书】：
1.一种多晶硅还原炉，其特征在于，包括：
炉体；
炉顶，所述炉顶设在所述炉体的顶部，所述炉顶的内表面设有热反射涂覆层，所述热反射涂覆层的表面分布有环状褶皱。
2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉，其特征在于，所述热反射涂覆层为金涂覆层或银涂覆层。
3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉，其特征在于，所述热反射涂覆层覆盖所述炉顶内表面的总面积的60％～80％。
4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉，其特征在于，所述炉顶呈半球形或半椭球形。
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