[实用新型]一种质谱仪及其离子清洁装置

说明书

本实用新型公开了一种质谱仪及其离子清洁装置，离子清洁装置包括激光器、与激光器连接的光路调节器以及安装于质谱仪的移动平台上的反射镜，反射镜的最高点低于质谱仪用于安装样品靶板的样品靶槽的最低点；反射镜水平设置于移动平台上、或倾斜朝向光路调节器一侧安装于移动平台上。工作时，移动平台带动反射镜移动至质谱仪的离子源底板下方，激光器的激光通过光路调节器发射至反射镜表面、被反射镜反射至离子源底板的底面，对离子源底板的残余离子进行轰击，从而确保离子源底板的长期干净，保证了质谱仪的检测灵敏度和分辨率。同时，离子清洁装置的设置避免了质谱仪拆机清洁，大幅降低了清洁成本和清洁时间，提高了清洁效率。

技术领域

本实用新型涉及分析仪器技术领域，更具体地说，涉及一种离子清洁装置。此外，本实用新型还涉及一种包括上述离子清洁装置的质谱仪。

背景技术

基质辅助激光解析离子源飞行时间质谱仪(简称为质谱仪)是一种常用的软电离质谱仪。质谱仪的离子源通常安装于真空腔室内，真空腔内设有移动平台和用于卡装靶板的靶板定位板，移动平台带动靶板水平往返移动至离子源下方，离子源底板产生的电场使待测物产生的离子碎片加速飞入质量分析器。

运行过程中，待测物电离后产生的少数离子残留于离子源上，长期运行后残留离子会在离子源底板表面堆积形成一层绝缘层。由于残留离子多分布离子源通往质量分析器的孔洞附近，不均匀堆积的残余离子影响电极产生的电场，进而影响离子的正常分离，进而影响质谱仪的灵敏度和分辨率。

现有技术中多采用释压、整机拆卸方式对离子源进行清洁。但是质谱仪属于高精密仪器，需要专业技术人员进行拆除清洁，且离子源重新安装后需对仪器进行调试以确保其正常工作，调试工作量大，清洁过程耗时长，影响样品鉴定。

同时，质谱仪的真空度要求极高，真空腔室释压后重新抽真空需要5h以上，使得整个清洁过程停机过程较长，严重影响检测效率。

综上所述，如何实现简便高效的离子源清洁，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种离子清洁装置，利用反射镜将激光器发射的激光反射至离子源底板表面、轰击残存离子，确保了离子源底板的洁净，并提高了清洁效率。

此外，本实用新型还提供了一种包括上述离子清洁装置的质谱仪。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种离子清洁装置，包括激光器、与所述激光器连接的光路调节器以及安装于质谱仪的移动平台上的反射镜，所述反射镜的最高点低于所述质谱仪用于安装样品靶板的样品靶槽的最低点；

所述反射镜水平设置于所述移动平台上、或倾斜朝向所述光路调节器一侧安装于所述移动平台上。

优选的，还包括靶板定位板，所述靶板定位板内设有所述样品靶槽，所述样品靶槽的底部设有用于安装所述反射镜的容纳孔。

优选的，所述反射镜为平面镜或球面镜。

优选的，还包括驱动电机，所述驱动电机的输出轴与所述反射镜连接，以带动所述反射镜转动。

优选的，所述靶板定位板的边缘设有用于擦拭离子源底板的底面的弹性清洁部，所述弹性清洁部的厚度大于所述靶板定位板到所述离子源底板的高度。

优选的，所述弹性清洁部包括聚氨酯清洁部。

优选的，所述弹性清洁部的表面均匀设有若干个擦拭凸起。

优选的，所述擦拭凸起包括条纹凸起和/或网状凸起。

一种质谱仪，包括上述任一项所述的离子清洁装置。