[实用新型]一种质谱仪及其离子清洁装置有效

专利信息
申请号: 202120421524.3 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN214441506U 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 李向广;尚元贺;韩乐乐;吴云昭;蔡克亚 申请(专利权)人: 安图实验仪器(郑州)有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 胡素莉
地址: 450016 河南省郑州市*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 质谱仪 及其 离子 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种离子清洁装置,其特征在于,包括激光器(1)、与所述激光器(1)连接的光路调节器(2)以及安装于质谱仪的移动平台上的反射镜(3),所述反射镜(3)的最高点低于所述质谱仪用于安装样品靶板的样品靶槽(41)的最低点;

所述反射镜(3)水平设置于所述移动平台上、或倾斜朝向所述光路调节器(2)一侧安装于所述移动平台上。

2.根据权利要求1所述的离子清洁装置,其特征在于,还包括靶板定位板(4),所述靶板定位板(4)内设有所述样品靶槽(41),所述样品靶槽(41)的底部设有用于安装所述反射镜(3)的容纳孔(42)。

3.根据权利要求2所述的离子清洁装置,其特征在于,所述反射镜(3)为平面镜或球面镜。

4.根据权利要求1-3任一项所述的离子清洁装置,其特征在于,还包括驱动电机,所述驱动电机的输出轴与所述反射镜(3)连接,以带动所述反射镜(3)转动。

5.根据权利要求2或3所述的离子清洁装置,其特征在于,所述靶板定位板(4)的边缘设有用于擦拭离子源底板(51)的底面的弹性清洁部(43),所述弹性清洁部(43)的厚度大于所述靶板定位板(4)到所述离子源底板(51)的高度。

6.根据权利要求5所述的离子清洁装置,其特征在于,所述弹性清洁部(43)包括聚氨酯清洁部。

7.根据权利要求5所述的离子清洁装置,其特征在于,所述弹性清洁部(43)的表面均匀设有若干个擦拭凸起。

8.根据权利要求7所述的离子清洁装置,其特征在于,所述擦拭凸起包括条纹凸起和/或网状凸起。

9.一种质谱仪,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的离子清洁装置。

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