[实用新型]一种慢提拉清洗水槽有效
| 申请号： | 202120415686.6 | 申请日： | 2021-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN215299182U | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 钱鑫;王艺澄;刘传君 | 申请（专利权）人： | 江苏美科太阳能科技有限公司;包头美科硅能源有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艳红 |
| 地址： | 212200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 慢提拉 清洗 水槽 | ||
【权利要求书】：
1.一种慢提拉清洗水槽，包括用于清洗硅片的清洗槽，所述清洗槽内设置有开口向上的清洗腔，所述清洗槽的外部设置有慢提拉装置，其特征在于，所述清洗槽的顶部设置有高压吹气装置，且所述高压吹气装置的吹风口倾斜向下设置，所述清洗腔的上端侧壁上设置有溢流口，在所述清洗槽于槽内液面水平位置处设置有红外光电感应装置。
2.根据权利要求1所述的一种慢提拉清洗水槽，其特征在于，所述清洗腔至少设置有一个，间隔均匀的设置在所述清洗槽内。
3.根据权利要求2所述的一种慢提拉清洗水槽，其特征在于，各所述清洗腔的上端侧壁上均设置有所述溢流口，且所述溢流口至少设置有两个，对称设置在所述清洗腔的上端左右两侧壁上。
4.根据权利要求1所述的一种慢提拉清洗水槽，其特征在于，所述清洗腔的左右两端侧壁外部设置有固定部，所述清洗槽的槽内左右两端各设置有一块连接板，所述连接板的一端与所述固定部连接，另一端与所述慢提拉装置连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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