[实用新型]微波等离子体化学气相沉积MPCVD系统的保护电路有效

专利信息
申请号: 202120375705.7 申请日: 2021-02-18
公开(公告)号: CN214304303U 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 张宏;李杰;季宇 申请(专利权)人: 成都纽曼和瑞微波技术有限公司
主分类号: F04B49/06 分类号: F04B49/06;F04B49/02;F04B41/06;F04B37/14;C23C16/511
代理公司: 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 代理人: 孔鹏
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 微波 等离子体 化学 沉积 mpcvd 系统 保护 电路
【说明书】:

本申请提供一种微波等离子体化学气相沉积MPCVD系统的保护电路,设置于MPCVD系统,该MPCVD系统包括真空泵,保护电路包括自动控制开关、手动控制开关、控制器和触摸屏,控制器与触摸屏电连接;真空泵通过自动控制开关以及手动控制开关与电源连接;自动控制开关和手动控制开关均与控制器电连接。其中,手动控制开关的闭合与断开只能由运维人员手动控制,运维人员可以在控制程序故障且不能通过控制面板控制系统的运行时,手动控制手动控制开关断开,提高系统的安全性。自动控制开关可以在真空泵运行出现异常时自动断开,进一步提高的安全性。并且,触摸屏可以显示上述控制开关的通断状态,能够直观地提示上述保护电路的运行状况。

技术领域

本申请涉及电子技术领域,具体而言,涉及一种微波等离子体化学气相沉积MPCVD系统的保护电路。

背景技术

MPCVD(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition,微波等离子体化学气相沉积)系统,是一种应用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的仪器。例如,MPCVD系统可以用于高速率制备高品质金刚石及其多种材料。

目前,如何优化MPCVD系统,使得其具有微波功率高、沉积面积大、沉积速度快、性能先进、稳定性高、使用方便、长时间运行安全可靠等特点,是亟需解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此,本申请的目的在于提供一种微波等离子体化学气相沉积MPCVD系统的保护电路,以提高MPCVD系统的安全性。

为了实现上述目的,本申请采用的技术方案如下:

第一方面,本申请提供一种微波等离子体化学气相沉积MPCVD系统的保护电路,设置于MPCVD系统,MPCVD系统包括真空泵,保护电路包括自动控制开关、手动控制开关、控制器和触摸屏,控制器与触摸屏电连接;真空泵通过自动控制开关以及手动控制开关与电源连接;自动控制开关和手动控制开关均与控制器电连接。

在可选的实施例中,真空泵包括前级机械泵、维持机械泵、罗茨泵和分子泵,自动控制开关包括第一自动控制开关、第二自动控制开关、第三自动控制开关和第四自动控制开关,手动控制开关包括第一手动控制开关、第二手动控制开关、第三手动控制开关和第四手动控制开关;前级机械泵通过第一自动控制开关、第一手动控制开关与电源连接;维持机械泵通过第二自动控制开关、第二手动控制开关与电源连接;罗茨泵通过第三自动控制开关、第三手动控制开关与电源连接;分子泵通过第四自动控制开关、第四手动控制开关与电源连接。

在可选的实施例中,第一自动控制开关包括第一空气开关和第一热继电器,第二自动控制开关包括第二空气开关和第二热继电器,第三自动控制开关包括第三空气开关和第三热继电器,第四自动控制开关包括第四空气开关和第四热继电器;前级机械泵依次通过第一空气开关、第一手动控制开关以及第一热继电器与电源连接;维持机械泵依次通过第二空气开关、第二手动控制开关以及第二热继电器与电源连接;罗茨泵依次通过第三空气开关、第三手动控制开关以及第三热继电器与电源连接;分子泵依次通过第四空气开关、第四手动控制开关以及第四热继电器与电源连接。

在可选的实施例中,保护电路还包括温度传感器,温度传感器设置于真空泵,温度传感器与控制器电连接。

在可选的实施例中,保护电路还包括振动传感器,振动传感器设置于真空泵,振动传感器与控制器电连接。

在可选的实施例中,保护电路还包括扬声器,控制器与扬声器电连接;自动控制开关和手动控制开关均与扬声器电连接。

在可选的实施例中,保护电路还包括LED灯,控制器与LED灯电连接;自动控制开关和手动控制开关均与LED灯电连接。

在可选的实施例中,真空泵与电源之间的导线的横截面积大于或等于1平方毫米。

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