[实用新型]用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置及系统

说明书

本申请涉及用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置及系统，具体而言，涉及激光器领域；本申请提供用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置包括：泵浦源、耦合镜、二色镜、钇铝石榴石晶体、半导体可饱和吸收镜、输出镜、放大晶体和闪光泵浦灯；当需要对文物进行清洗的时候，由于输出镜与泵浦源的光轴具有夹角，则该光路通过该输出镜时，经过该输出镜的一部分光通过折射传播到放大晶体和闪光泵浦灯，通过放大晶体和闪光泵浦灯将激光的能量提高，输出用于对文物的清洗，由于本申请产生的为皮秒激光，由于皮秒激光为冷加工且作用区域小，所以将皮秒激光器应用在文物清洗工作中，可以最大限度地保护文物的基底材料不受破坏。

技术领域

本申请涉及激光器领域，具体而言，涉及一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置及系统。

背景技术

文物可以反映出当时科学技术发展的成就及创造力，文物保护工作有利于推动科学研究，促进经济发展。但目前文物出土面临着复原与保护等问题，文物出土后表面的污垢和霉菌会加速对文物的破坏，因此，文物清洗是文物保护的重要工作之一。

目前常用的文物清洗方法主要有机械清理和化学清理法。该方法存在局限性，比如机械清洗法可能会导致清洗时范围太广，破坏了待保护区域。而化学法，可能与待保护物质发生物理或化学反应，在清洗过程中产生再次破坏。

但是，上述两种文物的清洗方法都难以避免的对文物造成腐蚀或者破坏，因此需要一种安全且对文物伤害较低的清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置及系统，以解决现有技术中上述两种文物的清洗方法都难以避免的对文物造成腐蚀或者破坏，因此需要一种安全且对文物伤害较低的清洗装置的问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，装置包括：泵浦源、耦合镜、二色镜、钇铝石榴石晶体、半导体可饱和吸收镜、输出镜、放大晶体和闪光泵浦灯；泵浦源、耦合镜、二色镜、钇铝石榴石晶体依次设置，且耦合镜、二色镜和钇铝石榴石晶体的轴心均与泵浦源的光路重合，输出镜设置在钇铝石榴石晶体远离泵浦源的一侧，且输出镜与泵浦源的光轴具有夹角，半导体可饱和吸收镜设置在光线经过输出镜反射的光路上，放大晶体和闪光泵浦灯依次设置在输出镜远离钇铝石榴石晶体的一侧。

可选地，该泵浦源的波长为808nm。

可选地，该泵浦源的输出光的脉宽为10皮秒-100皮秒。

可选地，该闪光泵浦灯的输出脉宽为100豪焦耳-1000豪焦耳。

可选地，该放大晶体的材料为钇铝石榴石晶体。

可选地，该输出镜与泵浦源的光轴的夹角为35度-65度。

可选地，该二色镜的透射光波长为700nm-1000nm，二色镜的反射光波长为1000nm-1300nm。

可选地，该二色镜的透射光波长为808nm，二色镜的反射光波长为1064nm。

第二方面，本申请提供一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗系统，系统包括清洗台和第一方面任意一项的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，清洗台设置在闪光泵浦灯远离泵浦源的一侧，且经过闪光泵浦灯放大之后的激光传输到清洗台上。

本实用新型的有益效果是：