[实用新型]用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置及系统

权利要求书

1.一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述装置包括：泵浦源、耦合镜、二色镜、钇铝石榴石晶体、半导体可饱和吸收镜、输出镜、放大晶体和闪光泵浦灯；所述泵浦源、所述耦合镜、所述二色镜、所述钇铝石榴石晶体依次设置，且所述耦合镜、所述二色镜和所述钇铝石榴石晶体的轴心均与所述泵浦源的光路重合，所述输出镜设置在所述钇铝石榴石晶体远离所述泵浦源的一侧，且所述输出镜与所述泵浦源的光轴具有夹角，所述半导体可饱和吸收镜设置在光线经过所述输出镜反射的光路上，所述放大晶体和所述闪光泵浦灯依次设置在所述输出镜远离所述钇铝石榴石晶体的一侧。

2.根据权利要求1所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述泵浦源的波长为808nm。

3.根据权利要求2所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述泵浦源的输出光的脉宽为10皮秒-100皮秒。

4.根据权利要求3所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述闪光泵浦灯的输出脉宽为100豪焦耳-1000豪焦耳。

5.根据权利要求4所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述放大晶体的材料为钇铝石榴石晶体。

6.根据权利要求5所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述输出镜与所述泵浦源的光轴的夹角为35度-65度。

7.根据权利要求6所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述二色镜的透射光波长为700nm-1000nm，所述二色镜的反射光波长为1000nm-1300nm。

8.根据权利要求7所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，其特征在于，所述二色镜的透射光波长为808nm，所述二色镜的反射光波长为1064nm。

9.一种用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗系统，其特征在于，所述系统包括清洗台和权利要去1-7任意一项所述的用于文物清洗的皮秒调Q激光清洗装置，所述清洗台设置在闪光泵浦灯远离所述泵浦源的一侧，且经过所述闪光泵浦灯放大之后的激光传输到所述清洗台上。