[实用新型]一种光电化学沉积槽有效
| 申请号: | 202120344356.2 | 申请日: | 2021-02-07 |
| 公开(公告)号: | CN214327949U | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
| 发明(设计)人: | 杨佳;曹成松;张君;王薇;杨海艳;侯堪文;刘国豪;徐宝强;李绍元;杨斌;马文会;熊恒;蒋文龙;李一夫;田阳;戴永年 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
| 主分类号: | C25D17/10 | 分类号: | C25D17/10;C25D17/02 |
| 代理公司: | 天津煜博知识产权代理事务所(普通合伙) 12246 | 代理人: | 朱维 |
| 地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光电 化学 沉积 | ||
本实用新型涉及一种光电化学沉积槽,属于化学沉积技术领域。该光电化学沉积槽包括沉积槽体和极板倾角调控装置,电极板倾斜设置在沉积槽体内且电极板互相平行,极板倾角调控装置包括电机、动力输入齿轮I、动力输入齿轮II、从动齿轮I、从动齿轮II、传动链条I、传动链条II和电极板。本实用新型可根据不同需求,通过极板倾角调控装置调节改变电极板与竖直方向的夹角,可实现极板间距的调控,以及光效应与电效应的协同作用,可提高目标元素的收得率、沉积效率、沉积物质量及能量利用效率,从而有效降低生产成本。
技术领域
本实用新型涉及一种光电化学沉积槽,属于化学沉积技术领域。
背景技术
随着科技的进步和社会的发展,人类社会对半导体的质量和需求量将会不断上升。目前,在电积工业中所出现的电积槽多为传统型电沉积槽,其极板排布方式固定不变,只能以竖直悬挂的方式进行排布和沉积。如使用传统电沉积技术制备半导体,随着沉积过程的进行,电极的电导率逐渐降低,电极电势也降低,最终导致原材料沉积速率降低、电流效率降低。若将传统型电沉积槽用于半导体的光电化学沉积过程,则光能利用率不高,沉积半导体的效率、产量和质量难以提升。若能高效、低能耗地制备这类半导体,将大大提高企业效益,并能使资源得到充分利用。
电化学沉积就是利用电化学方法,电解液离子在阳极发生氧化反应,在阴极表面发生还原反应,通过选择性调节电沉积参数(电极电位、电流密度、电沉积溶液的pH值等),使电解液阳离子在阴极表面被还原而析出所需物质的一种方法。电极反应一般包括以下几个过程:(1)反应离子由溶体向双电层移动,并继续经双电层向电极表面靠近;(2)反应离子在电极表面进行电极反应前的转化过程;(3)电极上的电子传递;(4)反应产物在电极表面进行反应后的转化过程;(5)反应产物形成新相,或反应产物自电极表面向电解液传递。
光电化学沉积是集光、电、化学为一体的沉积技术,是建立在半导体电化学基础上的一种材料制备手段。在光的照射下,光被金属或半导体电极材料吸收,或被电极附近溶液中的反应剂吸收,造成能量积累或促使电极反应发生,体现为光能和电能与化学能的转换。
光电化学沉积技术主要是利用光电效应来影响光电化学沉积过程,首先是光电导效应,即能量大于半导体材料禁带宽度Eg的光照射半导体表面,促使半导体载流子浓度的升高,从而提升了半导体的导电性;其次是光生伏特效应,能量大于半导体材料禁带宽度Eg的光照射至半导体/溶液界面时,半导体上产生的电子-空穴对将被弯曲的能带分离,对电极/电解液界面电势产生影响。上述两种现象会对电化学沉积体系中的载流子浓度以及电极/电解液界面电势降产生巨大的影响,从而使得离子还原过电势降低、电极反应速率加快。最后是光热效应,即能量低的光子激发能力很弱,热量传递性强,其主要作用是进行热辐射,导致电解液温度上升,类似于对沉积体系进行加热,可有效增强沉积过程中电解液中各电解质离子的扩散运动,从而改变电化学沉积行为。
实用新型内容
本实用新型针对传统电解槽中电极板只能竖直悬挂的情况,提出一种光电化学沉积槽,本实用新型光电化学沉积槽可根据不同需求、不同沉积元素而改变极板的倾斜度,从而实现极板间距的快速调节、生产效率的提高,人力成本的降低,经济效益的提升。
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