[实用新型]一种加大干船坞深度的整体组合自立结构有效

专利信息
申请号: 202120325660.2 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN214241181U 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 刘君;丁文静;张燕;王晓冬;宣庐峻;高加云;周科;马永平;魏洪伟;姬泽强 申请(专利权)人: 中船第九设计研究院工程有限公司
主分类号: B63C1/00 分类号: B63C1/00
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅
地址: 200063 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 大干 船坞 深度 整体 组合 自立 结构
【权利要求书】:

1.一种加大干船坞深度的整体组合自立结构,包括原坞墙(8)和原坞墙前趾(1)的船坞结构,其特征在于采用排桩墙(2)和压顶梁(3)与原坞墙前趾(1)形成加大干船坞深度的整体组合自立结构,所述压顶梁(3)设置在排桩墙(2)上且与原坞墙前趾(1)为植筋连接;所述排桩墙(2)下部设有与排桩墙(2)为植筋连接的新建坞墙前趾(5);所述新建坞墙前趾(5)上设有大壁厚衬砌墙(4);所述大壁厚衬砌墙(4)为设置在排桩墙(2)前的加深坞墙,其顶部与压顶梁(3)连接。

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