[实用新型]清洗抛光机的外周挡罩的组件及抛光机的清洗系统

说明书

本实用新型实施例公开了一种清洗抛光机的外周挡罩的组件及抛光机的清洗系统，其中，所述抛光机配备有主清洗管路，所述主清洗管路用于输送清洗液以对抛光机中的除了所述外周挡罩以外的其他部件进行清洗，所述挡罩清洗组件包括：挡罩清洗管路，所述挡罩清洗管路连接至所述主清洗管路，使得所述挡罩清洗管路能够输送来自所述主清洗管路的清洗液；多个挡罩清洗喷嘴，所述多个挡罩清洗喷嘴安装在所述挡罩清洗管路上，使得所述挡罩清洗管路输送的清洗液能够经由所述多个挡罩清洗喷嘴喷射至所述外周挡罩的内壁。

技术领域

本实用新型涉及半导体硅片生产技术领域，尤其涉及一种清洗抛光机的外周挡罩的组件及抛光机的清洗系统。

背景技术

硅片的最终抛光是硅片生产过程中的一个重要环节，最终抛光需要使硅片达到一定的表面粗糙度，因此对最终抛光机内部的环境要求特别是污染颗粒的要求是非常严格的，因为污染颗粒会在硅片抛光期间对硅片表面产生划伤进而对硅片的表面粗糙度产生影响。

最终抛光机通常包括三个抛光头，硅片需要依次在每个抛光头上抛光相应的时间，由于抛光头的高速旋转，抛光剂在离心力的作用下会溅射到抛光机的外周挡罩的内壁，并在内壁上结晶而形成颗粒，结晶颗粒很可能会粘附到抛光头上，从而在抛光过程中对硅片表面产生划伤，导致抛光的硅片产品的合格率降低。

目前通常通过定期人工擦拭抛光机的外周挡罩的内壁来清除溅射的抛光剂，由此可以一定程度上减少抛光剂的结晶，或者避免已结晶的抛光剂粘附到抛光头上，然而在上述作业方式中，一方面需要将外周挡罩的至少一部分从抛光机拆除来形成用于对外周挡罩的内壁进行擦拭的开口，作业过程烦琐，另一方面会增加人工作业成本。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型实施例期望提供一种清洗抛光机的外周挡罩的组件及抛光机的清洗系统，能够实现抛光机的外周挡罩的机械化清洗，由此将溅射在外周挡罩的内壁上的抛光剂清除并避免抛光剂在外周挡罩的内壁上结晶，并不需要人工作业因此能够节省成本，也不需要对外周挡罩进行拆除使清洗作业简单易行。

本实用新型的技术方案是这样实现的：

第一方面，本实用新型实施例提供了一种用于清洗抛光机的外周挡罩的挡罩清洗组件，其中，所述抛光机配备有主清洗管路，所述主清洗管路用于输送清洗液以对抛光机中的除了所述外周挡罩以外的其他部件进行清洗，所述挡罩清洗组件包括：

挡罩清洗管路，所述挡罩清洗管路连接至所述主清洗管路，使得所述挡罩清洗管路能够输送来自所述主清洗管路的清洗液；

多个挡罩清洗喷嘴，所述多个挡罩清洗喷嘴安装在所述挡罩清洗管路上，使得所述挡罩清洗管路输送的清洗液能够经由所述多个挡罩清洗喷嘴喷射至所述外周挡罩的内壁。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种抛光机的清洗系统，所述清洗系统包括：

清洗液供应源，所述清洗液供应源用于供应高压清洗液；

主清洗管路，所述主清洗管路用于输送所述清洗液供应源供应的清洗液；

至少一个主清洗喷嘴，所述至少一个主清洗喷嘴安装在所述主清洗管路上，使得所述主清洗管路输送的清洗液能够经由所述至少一个主清洗喷嘴喷射至所述抛光机中的除了外周挡罩以外的其他部件；

根据第一方面所述的挡罩清洗组件。

本实用新型实施例提供了一种清洗抛光机的外周挡罩的组件及抛光机的清洗系统，能够实现抛光机的外周挡罩的机械化清洗，由此将溅射在外周挡罩的内壁上的抛光剂清除并避免抛光剂在外周挡罩的内壁上结晶，从而减小结晶颗粒污染抛光头进而划伤硅片的可能性，保证了抛光的硅片产品的合格率；机械化清洗节省了人工作业成本，而且不需要对外周挡罩进行拆除使得清洗作业简单易行。

附图说明

图1为现有技术中用于清洗抛光机的清洗系统的示意图；