[实用新型]基于ＰＥＣＶＤ管理的高温自动清洁装置

说明书

本实用新型公开了基于PECVD管理的高温自动清洁装置，包括空气压缩机、外壳、控制面板、加热器和射频电极，所述外壳的上端安装有空气压缩机，所述外壳的内部侧壁上安装有加热器，所述外壳的外部侧壁上安装有控制面板，所述外壳的中部安装有第一板体、第二板体和第三板体，所述第二板体上贯穿连接有透明管路，所述透明管路的另一端连接有第三板体，所述透明管路和第二板体之间安装有检测机构。本装置通过按动控制面板上的按钮即可启动空气压缩机将加热的压缩空气通入管路中，将融化的药水冲出管路，操作简单，完成清洁后通过检测装置自动检测清洁效果，达标将停止，如未达到设定的清洁度，将重新清洁处理。

技术领域

本实用新型涉及清洁装置技术领域，尤其涉及基于PECVD管理的高温自动清洁装置。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是利用强电场或磁场使所需的气体源分子电离产生等离子体，等离子体中含有很多活性很高的化学基团这些基团经过经一系列化学和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜；药品通过管道传输后残留的药品沾附在管路壁上，管路需要清洁后利用PECVD在其表面形成固态薄膜，但是清洁操作繁琐，并且清洁效果差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供基于PECVD管理的高温自动清洁装置，具备操作检测，清洁效果好的特点，解决了现有技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：基于PECVD管理的高温自动清洁装置，包括空气压缩机、外壳、控制面板、加热器和射频电极，所述外壳的上端安装有空气压缩机，所述外壳的内部侧壁上安装有加热器，所述外壳的外部侧壁上安装有控制面板，所述外壳的中部安装有垂直于外壳底面的第一板体、第二板体和第三板体，所述第一板体的上端安装有射频电极，所述第一板体的一侧设有第二板体，所述第二板体上贯穿连接有透明管路，所述透明管路的另一端连接有第三板体，所述透明管路和第二板体之间安装有检测机构；

所述检测机构包括外管体、内管体、相机和光圈，所述外管体的中部套接有内管体，所述内管体的中部固定安装有相机，所述外管体的外部固定连接有光圈。

优选的，所述外壳的下端安装有抽气机。

优选的，所述光圈的一端安装有光源，光圈的表面开设有外螺纹，光圈通过外螺纹固定连接有透明管路。

优选的，所述外管体、内管体的一端连接有第二板体，另一端连接有透明管路，透明管路通过外管体和内管体之间的间隙与外壳的内部空腔相通。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

本实用新型的基于PECVD管理的高温自动清洁装置，通过按动控制面板上的按钮即可启动空气压缩机将外界空气压缩，压缩后的气体进入外壳内部的空腔中，经过加热气加热空气和管路，融化管路内的药水结晶，再将加热的压缩空气通入管路中，将融化的药水冲出管路，操作简单；完成清洁后通过检测装置自动检测清洁效果，达标将停止，如未达到设定的清洁度，将重新清洁处理；检测是光源发射光线，相机将管路的表面拍摄并传输至控制面板，经过PLC程序分析并判断清洁效果；清洁结束，利用抽气机抽取空腔内部的气体，形成真空状态后射频电极开启，形成电场可激发反应气体沉积薄膜。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构图；

图2为本实用新型的外壳内部机构图；

图3为本实用新型的透明管路连接图；

图4为本实用新型的检测机构结构图。

图中：1、空气压缩机；2、外壳；21、第一板体；22、第二板体；23、第三板体；3、控制面板；4、射频电极；5、透明管路；6、加热器；7、检测机构；71、外管体；72、内管体；73、相机；74、光圈；741、光源；8、抽气机。

具体实施方式