[实用新型]曝光机台有效
申请号: | 202120208455.8 | 申请日: | 2021-01-25 |
公开(公告)号: | CN214474413U | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 王博 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 机台 | ||
本申请提供一种曝光机台,包含一工作腔室、一第一底片框架与一第二底片框架。第一底片框架适于在工作腔室之外的一第一位置与在工作腔室之内的一第二位置之间移动。第二底片框架适于在工作腔室之外的一第三位置与在工作腔室之内的第四位置之间移动。当第一底片框架位于第二位置时,第二底片框架位于第三位置,并且当第二底片框架位于第四位置时,第一底片框架位于第一位置。
技术领域
本申请涉及一种曝光机台,且特别是有关于一种具有底片框架的曝光机台。
背景技术
已知技术的曝光机台只具有一个底片框架。在进行曝光作业时,底片框架承载底片而位于曝光机台的工作腔室内,位于工作腔室内的曝光装置对底片进行曝光,以将底片上的图案转印至位于工作腔室内且位于底片框架下方的基板上。当工作人员需要进行另一种底片的曝光时,则必须先将曝光机台停止曝光作业,然后将底片框架由工作腔室抽离,以进行后续底片的置换。因此,已知技术的曝光机台的更换底片的作业会导致曝光机台停止曝光作业,降低曝光机台的使用效率。
实用新型内容
本申请的一目的是提供一种具有两个底片框架的曝光机台,方便使用者更换底片时,曝光机台仍可进行曝光作业,以提升曝光机台的使用效率。
本申请提供一种曝光机台,包含一工作腔室、一第一底片框架与一第二底片框架。第一底片框架适于在工作腔室之外的一第一位置与在工作腔室之内的一第二位置之间移动。第二底片框架适于在工作腔室之外的一第三位置与在工作腔室之内的第四位置之间移动。当第一底片框架位于第二位置时,第二底片框架位于第三位置,并且当第二底片框架位于第四位置时,第一底片框架位于第一位置。
在本申请一实施例中,当第一底片框架在第一位置时,第一底片框架适于以一轴线为轴作一小于90度的转动,使得第一底片框架的一承载面倾斜地朝上,且第一底片框架的一背面倾斜地朝下并面向工作腔室。第一底片框架的承载面与背面彼此相对。
在本申请一实施例中,当第二底片框架在第三位置时,第二底片框架适于以另一轴线为轴作一小于90度的转动,使得第二底片框架的一承载面倾斜地朝上,且第二底片框架的一背面倾斜地朝下并面向工作腔室。第二底片框架的承载面与背面彼此相对。
在本申请一实施例中,当第一底片框架在第一位置时,第一底片框架适于从曝光机台拆离。
在本申请一实施例中,当第二底片框架在第三位置时,第二底片框架适于从曝光机台拆离。
在本申请一实施例中,第一底片框架与第二底片框架适于沿着一水平方向移动。
在本申请一实施例中,上述曝光机台更包含一基板承载平台,适于在工作腔室之外的一第五位置与在工作腔室之内的一第六位置之间沿着一另一水平方向移动。此另一水平方向垂直于上述水平方向。
在本申请一实施例中,上述曝光机台更包含一基板承载平台与一曝光装置。基板承载平台适于在工作腔室之外的一第五位置与在工作腔室之内的一第六位置之间移动。曝光装置位于工作腔室内。当基板承载平台位于第六位置且第一底片框架位于第二位置时,第一底片框架位于基板承载平台与曝光装置之间。当基板承载平台位于第六位置且第二底片框架位于第四位置时,第二底片框架位于基板承载平台与曝光装置之间。
附图说明
图1示出了本申请一实施例的一种曝光机台的立体图。
图2A至图2B示出了图1的第二底片框架进行更换底片时的操作侧视示意图。
图3A至图3B示出了图1的第一底片框架进行更换底片时的操作侧视示意图。
具体实施方式
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