[实用新型]曝光机台

权利要求书

1.一种曝光机台，其特征在于，包含：

一工作腔室；

一第一底片框架，适于在所述工作腔室之外的一第一位置与在所述工作腔室之内的一第二位置之间移动；以及

一第二底片框架，适于在所述工作腔室之外的一第三位置与在所述工作腔室之内的第四位置之间移动，其中当所述第一底片框架位于所述第二位置时，所述第二底片框架位于所述第三位置，并且当所述第二底片框架位于所述第四位置时，所述第一底片框架位于所述第一位置。

2.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，当所述第一底片框架在所述第一位置时，所述第一底片框架适于以一轴线为轴进行一小于90度的转动，使得所述第一底片框架的一承载面倾斜地朝上，且所述第一底片框架的一背面倾斜地朝下并面向所述工作腔室，其中所述第一底片框架的所述承载面与所述背面彼此相对。

3.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，当所述第二底片框架在所述第三位置时，所述第二底片框架适于以一轴线为轴进行一小于90度的转动，使得所述第二底片框架的一承载面倾斜地朝上，且所述第二底片框架的一背面倾斜地朝下并面向所述工作腔室，其中所述第二底片框架的所述承载面与所述背面彼此相对。

4.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，当所述第一底片框架在所述第一位置时，所述第一底片框架适于从所述曝光机台拆离。

5.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，当所述第二底片框架在所述第三位置时，所述第二底片框架适于从所述曝光机台拆离。

6.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，所述第一底片框架与所述第二底片框架适于沿着一水平方向移动。

7.根据权利要求6所述的曝光机台，其特征在于，还包含一基板承载平台，适于在所述工作腔室之外的一第五位置与在所述工作腔室之内的一第六位置之间沿着一另一水平方向移动，其中所述另一水平方向垂直于所述水平方向。

8.根据权利要求1所述的曝光机台，其特征在于，还包含：

一基板承载平台，适于在所述工作腔室之外的一第五位置与在所述工作腔室之内的一第六位置之间移动；以及

一曝光装置，位于所述工作腔室内；

其中，当所述基板承载平台位于所述第六位置且所述第一底片框架位于所述第二位置时，所述第一底片框架位于所述基板承载平台与所述曝光装置之间；以及

其中，当所述基板承载平台位于所述第六位置且所述第二底片框架位于所述第四位置时，所述第二底片框架位于所述基板承载平台与所述曝光装置之间。