[实用新型]一种框架和处理盒

说明书

本实用新型涉及一种框架和具有该框架的处理盒，所述框架包括相对的上表面和下表面、相对的前表面和后表面以及相对的左表面和右表面，所述上表面、下表面、前表面、后表面、左表面和右表面围合形成用于容纳碳粉的腔体，其中，上表面与下表面、左表面与右表面均相互平行，框架还包括从后表面向远离腔体的方向延伸的突起以及与突起相邻设置的凹陷，因而，该框架可被容纳更多碳粉。

技术领域

本实用新型涉及电子照相成像领域，尤其涉及一种处理盒以及该处理盒中的框架。

背景技术

处理盒是电子照相成像设备的消耗品，当电子照相成像设备工作时，处理盒通过消耗其中存储的碳粉使得图像成像在介质上。常见的，处理盒有一体式也有分体式，所谓一体式是指处理盒除了包括容纳碳粉的单元外，还包括容纳光敏件的单元，二者结合为一体，所谓分体式是指所述容纳光敏件的单元被设置在电子照相成像设备中，或者该单元与容纳碳粉的单元分体形成，二者可单独运输和售卖，只有在终端用户需要使用时，才将二者结合起来。

对于终端用户来说，处理盒中容纳的碳粉越多，该处理盒的使用成本越低，因而，处理盒生产厂商有必要在现有处理盒基础上考虑如何能扩大其碳粉容量，以满足用户的需求。

实用新型内容

本实用新型涉及的处理盒的框架结构被改变，进而达到扩大碳粉容量的目的，具体方案如下：

一种框架，包括相对的上表面和下表面、相对的前表面和后表面以及相对的左表面和右表面，所述上表面、下表面、前表面、后表面、左表面和右表面围合形成用于容纳碳粉的腔体，其中，上表面与下表面、左表面与右表面均相互平行，框架还包括从后表面向远离腔体的方向延伸的突起以及与突起相邻设置的凹陷。

沿上表面指向下表面的方向，凹陷具有相对的第一末端和第二末端，沿框架的纵向方向，突起离腔体最远的点连接形成直线L，经过直线L并与左右表面垂直做一个虚拟面，所述第一末端到虚拟面的距离小于第二末端到虚拟面的距离。

或者，沿框架的纵向方向，突起离腔体最远的点连接形成直线L，经过直线L并与左右表面垂直做一个虚拟面，沿上表面指向下表面的方向，凹陷离该虚拟面的距离逐渐增大。

或者，沿上表面指向下表面的方向，凹陷向着腔体内凹陷。

相应的，下表面还设置有与凹陷第二末端匹配的凹槽。

优选的，所述突起设置为两个，凹陷位于两个突起之间，沿框架的纵向，凹陷位于框架的中部，两个突起分别位于凹陷的两侧。

框架包括相互结合的面盖和底壳，突起和凹陷设置在面盖上，凹槽设置在底壳上。

本实用新型还提供一种处理盒，该处理盒如上所述的框架、安装在框架上表面的出粉刀、与出粉刀相邻设置的显影件，所述出粉刀与显影件接触。

另外，本实用新型还提供另一种处理盒，该处理盒包括可旋转地安装有光敏件的鼓单元和如上所述的框架，所述鼓单元和框架相互结合。

本实用新型中的框架以及具有该框架的处理盒中用于容纳碳粉的空间被增大。

附图说明

图1是本实用新型涉及的处理盒的立体图。

图2是本实用新型涉及的处理盒中显影单元的立体图。

图3A和图3B是本实用新型涉及的处理盒中碳粉容纳框架的立体图。

图4是本实用新型涉及的处理盒中碳粉容纳框架的分体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细描述本实用新型的实施例。

图1是本实用新型涉及的处理盒的立体图；图2是本实用新型涉及的处理盒中显影单元的立体图。