[实用新型]一种框架和处理盒

权利要求书

1.一种框架，包括相对的上表面和下表面、相对的前表面和后表面以及相对的左表面和右表面，所述上表面、下表面、前表面、后表面、左表面和右表面围合形成用于容纳碳粉的腔体，其中，上表面与下表面、左表面与右表面均相互平行，其特征在于，框架还包括从后表面向远离腔体的方向延伸的突起以及与突起相邻设置的凹陷。

2.根据权利要求1所述的一种框架，其特征在于，沿上表面指向下表面的方向，凹陷具有相对的第一末端和第二末端，沿框架的纵向方向，突起离腔体最远的点连接形成直线L，经过直线L并与左右表面垂直做一个虚拟面，所述第一末端到虚拟面的距离小于第二末端到虚拟面的距离。

3.根据权利要求1所述的一种框架，其特征在于，沿框架的纵向方向，突起离腔体最远的点连接形成直线L，经过直线L并与左右表面垂直做一个虚拟面，沿上表面指向下表面的方向，凹陷离该虚拟面的距离逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的一种框架，其特征在于，沿上表面指向下表面的方向，凹陷向着腔体内凹陷。

5.根据权利要求2-4中任一项权利要求所述的一种框架，其特征在于，下表面还设置有与凹陷第二末端匹配的凹槽。

6.根据权利要求5所述的一种框架，其特征在于，所述突起设置为两个，凹陷位于两个突起之间。

7.根据权利要求6所述的一种框架，其特征在于，沿框架的纵向，凹陷位于框架的中部，两个突起分别位于凹陷的两侧。

8.根据权利要求7所述的一种框架，其特征在于，框架包括相互结合的面盖和底壳，突起和凹陷设置在面盖上，凹槽设置在底壳上。

9.处理盒，其特征在于，包括如权利要求1-8中任意一项权利要求所述的框架、安装在框架上表面的出粉刀、与出粉刀相邻设置的显影件，所述出粉刀与显影件接触。

10.处理盒，其特征在于，包括可旋转地安装有光敏件的鼓单元和如权利要求1-8中任意一项权利要求所述的框架，所述鼓单元和框架相互结合。