[实用新型]一种高效真空镀膜系统

说明书

本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种高效真空镀膜系统，包括有工作台、真空机构、镀膜机构和控制机构，镀膜机构包括有设于工作台上侧的镀膜腔，镀膜腔上端设有凸环，凸环开有环槽，凸环铰接有腔盖，腔盖圆心处设有螺纹杆，螺纹杆远离镀膜腔一端设有第一把手，螺纹杆另一端转动装配有与环槽相匹配的密封板，凸环相对铰接点一侧设有回弹组件，凸环相对于铰接点一侧设有C形块，腔盖设有与C形块相匹配的J形弹性卡块，本设备能够进行高效的真空镀膜加工，起到良好密封效果的同时便于工件、材料的添加。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种高效真空镀膜系统。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺，简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

在进行真空镀膜加工时，真空环境是作为加工的必要环境，但现有的设备为了达到较好的密封效果，其腔盖的开启和关闭过程非常繁琐，需要大量的操作才能够开启或关闭腔盖以达到高效真空的效果，进而影响真空镀膜的加工效率，且一般的设备密封件仅为单独一层密封环，一旦密封环失效则无其他密封措施，其密封效果不佳，并不能够满足真空镀膜的高效加工需要。

实用新型内容

本实用新型的目的是：旨在提供一种高效真空镀膜系统，能够满足工件的高效镀膜加工需要，不仅便于腔盖的开关，并且能够具备良好的密封效果。

为实现上述技术目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种高效真空镀膜系统，包括有工作台、真空机构、镀膜机构和控制机构，所述控制机构与外界电源电性连接，所述镀膜机构包括有设于工作台上侧的镀膜腔，所述镀膜腔下侧与真空机构连接，所述镀膜腔内设有膜厚监测传感器、蒸发舟和若干与蒸发舟连接的加热接线柱，所述镀膜腔内设有位于蒸发舟上侧的样品台，所述镀膜腔上端设有凸环，所述凸环开有环槽，所述环槽设有第一密封圈，所述凸环铰接有腔盖，所述腔盖圆心处设有螺纹杆，所述螺纹杆远离镀膜腔一端设有第一把手，所述螺纹杆另一端转动装配有与环槽相匹配的密封板，所述密封板靠近腔盖一端设有与腔盖滑动装配的稳定杆，所述密封板下端设有与第一密封圈相匹配的卡槽，所述凸环相对铰接点一侧设有回弹组件，所述回弹组件包括有台阶孔，所述台阶孔底壁固定连接有回位弹簧，所述回位弹簧另一端连接有伸出台阶孔的剖面为T形的推块，所述凸环相对于铰接点一侧设有C形块，所述C形块的开口内设有由上至下向镀膜腔一侧倾斜的斜面，所述腔盖设有与C形块相匹配的J形弹性卡块，所述真空机构和镀膜机构均与控制机构电性连接。