[实用新型]一种靶材环件校正装置有效

专利信息
申请号: 202120118052.4 申请日: 2021-01-15
公开(公告)号: CN214442035U 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;冯周瑜;罗明浩;张林桥 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B21D3/16 分类号: B21D3/16;B21D43/00;B21D53/16;C23C14/34
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 王岩
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 靶材环件 校正 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种靶材环件校正装置,所述校正装置包括校正基座、校正夹具和施压组件,所述校正夹具竖直放置于校正基座上;待校正靶材环件由第一固定组件固定于校正夹具的一侧表面,所述靶材环件和校正夹具的中心轴重合,所述靶材环件外壁上设有凸起;所述施压组件位于靶材环件外侧,与靶材环件上的凸起接触,所述施压组件的一端与校正夹具连接。本实用新型通过校正装置的结构设计,尤其是固定组件的设置,能够对变形靶材环件中的不同位置进行快速校正,避免再利用时造成安装困难和使用异常的问题,便于靶材环件的再利用,校正效果好;所述装置结构简单,组装方便,适合于不同种类的靶材环件的校正,能够有效降低半导体产品制备的成本。

技术领域

本实用新型属于半导体技术领域,涉及一种靶材环件校正装置。

背景技术

在半导体芯片的生产过程中,靶材溅射中通常会用到环件,环件在其中也参与溅射。环件在溅射机台上安装后,通过电流通电作用,使周围产生磁场,使靶材上溅射出的粒子通过磁场能够均匀的附着在晶圆上,而且环件安装在机台上,开口位置通电时,其他区域与机台不宜有接触,否则容易出现漏电。

靶材环件在使用过程中,由于腔体温度较高,环件容易出现变形问题,造成后续安装困难,变形后的环件容易因碰到设备金属配件而出现异常导电情况,导致设备无法正常运行,因此需要对变形环件进行校正修复,便于重新利用。

CN 110849248A公开了一种环件角度检具,所述检具包括含有内环面的检测套;所述内环面上沿径向设有多个轴向凹槽,所述轴向凹槽与待测环件上设置的凸块相匹配,所述轴向凹槽用于检验待测环件上的凸块角度,且可将待测环件凸块直接放入轴向凹槽中,单人操作即可实现环件角度检验,同时检具结构简单,加工容易,但该装置主要是对环件上的凸块角度进行匹配性检测,而并未涉及到对变形环件的校正与修复,两者属于不同的应用方向。

CN 108396297A公开了一种溅射机环件,包括环件本体,环件本体具有形成环件端口的第一端部和第二端部,其中,第一端部上设有第一导电凸起,第一导电凸起上与第一端部连接的一端为第一内端,第一导电凸起末端的周向尺寸小于第一内端的周向尺寸;第二端部上设有第二导电凸起,第二导电凸起上与第二端部连接的一端为第二内端,第二导电凸起末端的周向尺寸小于第二内端的周向尺寸;该环件通过增加导电凸起末端与机台之间的距离,减小导电凸起接触到机台的概率,但并未涉及到对环件变形后的修复,两者属于不同的改进方式与方向。

综上所述,对于使用过程中变形的靶材环件,还需要选择合适的校正装置对环件进行修复,方便靶材环件的再利用,降低产品成本。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种靶材环件校正装置,通过校正装置的结构设计,能够对靶材环件中不同的变形位置进行快速校正,并能够有效控制校正程度,便于靶材环件的再利用,相对降低生产成本。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

本实用新型提供了一种靶材环件校正装置,所述校正装置包括校正基座、校正夹具和施压组件,所述校正夹具竖直放置于校正基座上;待校正靶材环件由第一固定组件固定于校正夹具的一侧表面,所述靶材环件和校正夹具的中心轴重合,所述靶材环件外壁上设有凸起;所述施压组件位于靶材环件外侧,与靶材环件上的凸起接触,所述施压组件的一端与校正夹具连接。

本实用新型中,所述靶材环件的校正装置主要是针对于靶材环件的结构而设计的,为了便于靶材环件的校正,需要将环件竖直放置,因此在校正装置的设计上,主体结构即为校正夹具,通过第一固定组件的设置将靶材环件纵向固定,但仍能够旋转,通过施压组件对环件的变形区域进行加压校正,而靶材环件上凸起的存在既有助于施压组件对靶材环件的校正,也可避免校正过度的问题;采用该装置可实现变形环件的快速校正与修复,避免再利用时造成安装困难和使用异常的问题,有助于靶材环件的多次利用,降低半导体产品制备的成本。

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