[发明专利]一种高性能光学薄膜及其制备工艺

说明书

本发明提供一种高性能光学薄膜及其制备工艺，涉及光学薄膜技术领域，解决了现有的光学薄膜除湿防护性能较差的问题，包括高性能光学薄膜包括基体膜层，所述基体膜层的顶侧依次层叠设置有紫外线吸收模层、抗红外光膜层和耐磨层，所述基体膜层的底侧设置有粘胶层，且所述粘胶层的外侧设置有离型层。本发明通过将透明电加热薄膜作为本发明的基体膜层，可实现光学薄膜在实际运用时，因内外温差较大的原因在其表面产生湿气雾化，通过透明电加热薄膜在通电后产生热量，可有效避免光学薄膜表面产生湿气雾化，从而可有效提高光学薄膜在使用时的便利性。

技术领域

本发明属于光学薄膜技术领域，更具体地说，特别涉及一种高性能光学薄膜及其制备工艺。

背景技术

光学薄膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器；主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。

目前，在建筑玻璃外墙、汽车玻璃、镜面玻璃等领域都会使用光学薄膜，但是安装的光学薄膜遇到湿气、雨滴时容易沾湿、雾化玻璃，影响人们观看视野，如果手动擦拭雾化的镜面，容易造成光学薄膜表面出现损坏，传统的光学薄膜除湿防护性能较差。于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供一种高性能光学薄膜及其制备工艺，以期达到更具有更加实用价值性的目的。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种高性能光学薄膜及其制备工艺，以解决现在的光学薄膜除湿防护性能较差的问题。

本发明高性能光学薄膜及其制备工艺的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种高性能光学薄膜，包括高性能光学薄膜包括基体膜层，所述基体膜层的顶侧依次层叠设置有紫外线吸收模层、抗红外光膜层和耐磨层，所述基体膜层的底侧设置有粘胶层，且所述粘胶层的外侧设置有离型层。

进一步的，基体膜层为透明电加热薄膜。

进一步的，紫外线吸收层内含有紫外线吸收剂，且紫外线吸收剂的浓度为10％～15％之间，所述紫外线吸收剂可为苯并三唑类、二苯甲酮类、三嗪类、水杨酸酯类和氰代丙烯酸酯类中的任意一种或多种组合物。

进一步的，紫外线吸收层的厚度为0.3～8um。

进一步的，抗红外光膜层包括依次层叠模压的五氧化三钛膜、二氧化硅膜以及二氧化钛膜。

进一步的，抗红外光膜层的厚度为0.2～6um。

进一步的，耐磨层为聚甲基丙烯酸甲酯层，且耐磨层的厚度为0.8～10um。

本发明还提供了一种高性能光学薄膜的制备工艺，包括如下步骤：

S1、将基体膜层表面清洗干净，然后放入其放入置真空镀膜机；

S2、调节真空镀膜机的真空室内部真空度小于1×10^-3Pa，并对基体膜层进行加热至设定温度，之后保证基体膜层处于恒温状态；

S3、采用物理气相沉积技术在基体膜层的顶侧依次制备吸收模层、抗红外光膜层和耐磨层，直至膜层厚度达到设定值；

S4、待真空镀膜机的真空室冷却至室温后取出镀制好的半成品光学薄膜元件；

S5、在基体膜层的底侧涂覆粘胶层，之后在涂覆粘胶层的外侧覆盖离型层，即制成所需的高性能光学薄膜。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：